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【資料頁數(shù)】727頁 (大16開 A4紙大)
【資料內(nèi)容】制造工藝及配方【項(xiàng)目數(shù)量】76項(xiàng)
【資料服務(wù)費(fèi)】1580 元  
【交付方式】EMS 上海中通

１   物理氣相沉積法制備黑色碳化鉻硅絕緣復(fù)合涂層的方法
制備黑色碳化鉻硅復(fù)合涂層的方法所制備而成的黑色碳化鉻硅復(fù)合涂層具有耐腐蝕性強(qiáng)、抗氧化性好的優(yōu)點(diǎn)，同時(shí)其區(qū)別于常見的黑色膜層就是具有絕緣性不導(dǎo)電，很好的滿足產(chǎn)品絕緣性能要求，在３Ｃ產(chǎn)品中的應(yīng)用具又廣泛前景。

２   在核用鋯合金基底表面制備Ｃｒ涂層的制備工藝
采用的磁控濺射技術(shù)在核用鋯合金基底上沉積強(qiáng)結(jié)合力、高厚度Ｃｒ涂層。

３   在球閥圓頭表面制備Ｃｒ涂層的方法
將機(jī)械拋光后的球閥圓頭拋丸除銹、超聲波清洗，然后依次表面反濺清洗、靶材預(yù)濺射，最后采用磁控濺射技術(shù)在球閥圓頭表面制備具有高耐腐蝕和耐磨損特性的Ｃｒ涂層。提高球閥圓頭耐腐蝕和耐磨損性能，該方法低污染、環(huán)境友好。

４   ＣｒＦｅ＋（Ｃｒ，Ｆｅ）Ｎ代鉻鍍層及其制備方法
比電鍍鉻（Ⅵ）鍍層硬度高，韌性好，是強(qiáng)韌性薄膜，內(nèi)應(yīng)力小，與基體結(jié)合力高。無氫脆和靶中毒問題。比Ｃｒ＋ＣｒＮ復(fù)合膜工藝窗口范圍寬，成本更低。

５   金屬表面保護(hù)層及其制備方法
 所述金屬表面保護(hù)層從內(nèi)到外包括底粉層、介質(zhì)粉層、ＰＶＤ金屬鍍層和透明粉層；其中，所述ＰＶＤ金屬鍍層為通過磁控真空濺射方法獲得，所述ＰＶＤ金屬鍍層至少包括采用鎳鉻合金和純鉻兩種靶材的混合鍍層。能達(dá)到電鍍的表面處理效果，也能更環(huán)保。

６   管狀鉻靶材的制備方法
所述方法包括過渡層的制備、包套的制備、包套脫氣、熱等靜壓、退火處理、機(jī)加工等步驟，通過制備得到的管狀鉻靶材沒有裂紋產(chǎn)生、不會發(fā)生彎曲變形、致密度＞９９％，純度高，極大的提高了產(chǎn)品的合格率。

７   料漿法沉積的富鉻高溫耐蝕涂層的制備
料漿法沉積的富鉻高溫耐蝕涂層及其制備方法可應(yīng)用于各類碳鋼、奧氏體不銹鋼以及高溫合金等金屬部件，尤其適用于大型管道類金屬部件、異性金屬件和復(fù)雜件等，實(shí)用性強(qiáng)、應(yīng)用范圍廣、滲鉻效率高、污染小、厚度適中、與基體冶金結(jié)合良好且不易脫落。

８   替代水電站受油器操作油管鍍鉻的材料
提供的材料看完工藝處理后，可以替代傳統(tǒng)鍍鉻、噴涂等工藝，使零件恢復(fù)原有尺寸形狀，并具有不低于原性能的表面特性。采用激光熔覆處理后，熔覆層具有更好的耐磨性能、耐蝕性能，同時(shí)熔覆層和基材的結(jié)合強(qiáng)度高，熔覆層及其界面組織致密，晶粒細(xì)小，具有優(yōu)良的力學(xué)性能。

９   耐高溫抗燒蝕合金，屬于合金制備
解決目前通常采用電鍍鉻層作為速射武器、火炮身管等的耐高溫?zé)g涂層，而電鍍鉻層在鍍鉻過程中，會發(fā)生由六方晶體到立方晶體的晶型轉(zhuǎn)變，使得鉻層中充滿微裂紋，易于剝落，且需要使用有毒物質(zhì)，對環(huán)境具有一定危害性的問題。涂層與合金具有極好的結(jié)合力，避免了裂痕、剝落現(xiàn)象等的發(fā)生。

１０適用于電真空器件的在襯底上形成氧化鉻膜的方法
該方法包括如下步驟：在襯底上形成鉻膜；在濕氫氛圍中，將形成有鉻膜的該襯底于９００～１３００℃溫度下保溫至鉻膜完全氧化成氧化鉻膜。該方法降低了在電真空器件上形成高質(zhì)量的氧化鉻薄膜的工藝控制難度，從而減小了電真空器件在高梯度電場下的擊穿幾率。

１１含銀的氮化鉻基硬質(zhì)納米結(jié)構(gòu)復(fù)合膜及制備方法
不僅高硬度且具有優(yōu)異的摩擦磨損性能；同時(shí)制法簡單，效率高。

１２由改性含鉻漿料配方獲得的獨(dú)特且改善的鉻涂層
漿料配方包括選擇的鹵化物活化劑和緩沖材料的組合，該鹵化物活化劑和緩沖材料協(xié)同地彼此相互作用以形成鉻擴(kuò)散涂層，該涂層具有與由常規(guī)滲鉻方法產(chǎn)生的鉻擴(kuò)散涂層相比較的改善的微結(jié)構(gòu)。所述涂層可以受控方式精確地局部施加至各種零件上，包括具有含有復(fù)雜幾何結(jié)構(gòu)的內(nèi)部段的那些，而沒有掩蔽其任何部分。

１３粉末冶金高溫合金電鍍鉻的方法
有效防止在鍍鉻槽液中零件表面再次氧化和Ａｌ元素溶解的問題；大幅提高鍍層結(jié)合力。

１４火焰噴涂＋ＰＶＤ鍍膜復(fù)合涂?鍍膜層的結(jié)構(gòu)及其制備方法
主要組成相有γ?Ｎｉ、Ｆｅ?Ｎｉ３、Ｎｉ２．９Ｃｒ０．７Ｆｅ０．３６、Ｃｒ２３Ｃ６、ＷＣ、Ｃｒ２Ｂ，具有良好的連接與載荷支撐作用，其界面具有一定的擴(kuò)散連接作用；多弧離子鍍膜Ｂ、Ｃ在涂層基礎(chǔ)上形成硬度更高、耐蝕性能更好的膜層。制備工藝包括：首先用氧?乙炔火焰噴焊設(shè)備，制備出鎳基碳化鎢冶金熔合的過渡層，經(jīng)過拋光、超聲去污處理后，再利用多弧離子鍍設(shè)備，依次制備出鍍鉻層和鍍氮化鉻層。

１５滲劑料漿和滲Ｃｒ涂層及其制備方法和應(yīng)用與具有滲Ｃｒ涂層的零件
零件表面的滲Ｃｒ涂層為金屬元素結(jié)合，能夠確保涂層與基體緊密結(jié)合而不易脫落，進(jìn)而解決了目前鍍鉻防護(hù)鍍鉻層易脫落的問題；滲Ｃｒ涂層的制備過程簡單、容易操作，所用時(shí)間短，原材料成本低并且用途廣泛，能夠用于民用產(chǎn)品生產(chǎn)。

１６活塞環(huán)表面鉻、石墨混合涂層制備方法
一定程度上提高了混合涂層的硬度，提高了其的自潤滑性，有利于降低涂層的摩擦系數(shù)、增加耐磨性，很大程度上降低了磨損率。

１７利用水等離子體氧化制備氧化鉻涂層的方法
以水等離子體為氧化介質(zhì)，氧化鉻涂層在金屬基體的鍍鉻表面進(jìn)行原位生長。氧化鉻涂層優(yōu)選制備溫度為５００℃，優(yōu)選制備時(shí)長為２ｈ，優(yōu)選制備氣壓為８０Ｐａ之。通過對比空氣氧化獲得的氧化鉻涂層（ＡＯ），水蒸氣氧化獲得的氧化鉻涂層（ＷＶＯ）及水等離子體氧化獲得的氧化鉻涂層（ＷＰＯ）的表面特性及阻氫性能，表明水等離子體氧化工藝獲得的涂層質(zhì)量最優(yōu)，性能最佳。應(yīng)用于臨氫環(huán)境的儲氫容器及核反應(yīng)堆的結(jié)構(gòu)部件，能夠提高其阻氫效率。

１８耐老化周期變量反應(yīng)黑鉻鍍膜
增加黑鉻鍍膜厚度，改善沉積層的應(yīng)力殘留，解決鍍膜噴涂透明粉時(shí)加熱、冷卻時(shí)龜裂問題；提高鍍膜與底層高光樹脂材料結(jié)合力。

１９鉻平面靶材熱等靜壓處理方法
是在高溫高壓環(huán)境下，利用陶瓷珠的熱形變較小和流動性，使得靶材工件的形變降到最低，減少側(cè)彎和形變，提高了產(chǎn)品的質(zhì)量，減少了材料報(bào)廢，降低了生產(chǎn)成本。

２０碳化鉻復(fù)合鍍層及其制備方法
其中制備方法中，采用ＴｉＡｌＮ作為梯度過渡層將底層的Ｎｉ層和外層的ＣｒＣ層緊密結(jié)合。制備方法中采用ＴｉＡｌＮ作為梯度過渡層則可以在Ｎｉ層和ＣｒＣ層之間平滑過渡，使得Ｎｉ層和ＣｒＣ層結(jié)合緊密，制備的復(fù)合鍍層既具有Ｎｉ層的耐腐蝕性，又具有ＣｒＣ層的耐磨性，使用時(shí)產(chǎn)品質(zhì)量更加穩(wěn)定，且ＣｒＣ層更加健康環(huán)保。

２１在成膜時(shí)，可抑制在鉻合金靶材的表面上生成陷口，且可抑制小滴附著于被處理材的鉻合金靶材
一種鉻合金靶材，其中原子比中的組成式為Ｃｒ１００?ｘ?ｙＭ１ｘＭ２ｙ，０．１≦ｘ≦２１．０，０．１≦ｙ≦２３．０，Ｍ１為選自鈦及釩中的一種以上的元素，Ｍ２表示選自鉬、錳、硼、鎢、鈮、鉭中的一種以上的元素，剩余部包含不可避免的雜質(zhì)，并且所述鉻合金靶材中，含有１０質(zhì)量ｐｐｍ～１０００質(zhì)量ｐｐｍ的氧作為不可避免的雜質(zhì)。

２２二維硫化鉻材料的制備方法
制備方法簡單，原材料資源豐富、無毒、無害，制備過程對環(huán)境不存在不良影響，且制備的二維硫化鉻材料具有優(yōu)異的光、電、磁性能。

２３固體粉末法滲鉻工藝及滲劑配方
滲劑提高工件抗氧化、耐腐蝕能力；經(jīng)過滲鉻工藝制備的滲鉻層表面硬度可達(dá)到１２００～１５００ＨＶ，提高工件的耐磨性能，滲鉻工
藝流程簡便、工藝可靠、質(zhì)量穩(wěn)定。

２４不銹鋼鑄件鹽浴滲鉻的方法
提供的鹽浴滲鉻的處理方法，操作簡單，成本低廉，生產(chǎn)過程中三廢少，熔鹽的流動性好，殘留在工件表面的殘?jiān)子谇宄⒖捎行У奶嵘讳P鋼表面的硬度以及耐腐蝕性能。

２５在金屬材料表面沉積氧化鉻薄膜的方法
采用電鍍鋅的方式在金屬表面形成鋅過渡層打底，克服現(xiàn)有技術(shù)金屬材料與陶瓷薄膜的結(jié)合力弱、薄膜易剝落失效等弊端，且氧化鉻薄膜能夠顯著增強(qiáng)金屬材料的耐高溫、抗氧化性能，而且工藝簡單，綠色環(huán)保，產(chǎn)業(yè)化成本低，利于提高經(jīng)濟(jì)和社會效益。

２６新型的不銹鋼表面鹽浴滲鉻劑及滲鉻工藝
在不銹鋼表面獲得了質(zhì)量好的滲鉻層，滲層與基體可以清晰被觀察到，兩者結(jié)合較好。

２７高效、高質(zhì)量鎳基高溫合金表面鹽浴滲鉻劑及其工藝
采用鹽浴法得到了一種滲速快，滲層厚且均勻，簡單易行，成本低的鎳基高溫合金表面滲鉻層。工藝是把鎳基高溫合金表面拋光、清洗后放入裝有鹽浴劑的坩堝中，在９００～９５０℃環(huán)境中，保溫４ｈ，進(jìn)行滲鉻。其硬度均提高了３倍。工藝作為鎳基高溫合金表面改性的方法，提高了
材料表面硬度、延長了其使用壽命，拓寬了適用范圍，在航空航天、石油化工等領(lǐng)域具有更廣泛的應(yīng)用前景。

２８鑲嵌結(jié)構(gòu)界面α?Ｃｒ２Ｏ３涂層及其制備方法
沉積工藝穩(wěn)定，不存在靶中毒問題，所沉積的涂層與基體結(jié)合牢固，具有穩(wěn)定的α相結(jié)構(gòu)。

２９微型蝸桿的表面鍍鉻工藝
包括如下步驟：（ａ）打磨毛刺（ｂ）清洗除油（ｃ）表面處理（ｄ）檢驗(yàn)，用真空鍍鉻法增加蝸桿表面鍍鉻層致密度和穩(wěn)定的化學(xué)性能，確保蝸桿表面光滑阻力小，其次鍍鉻層厚度增加，耐磨性能好，延長蝸桿的使用壽命；同時(shí)該鍍鉻方法污染小，不存在鍍鉻廢液，也不存在重金屬鉻流入環(huán)境，具有較高的經(jīng)濟(jì)效益和生態(tài)效益。

３０鎳基高溫合金鍍鉻工藝
采用兩種電活化方法先陽極活化再陰極活化，有效的除掉鎳基高溫合金鍍鉻前表面生成的鈍化層及掛灰，活化鎳基高溫合金的金屬晶格，提高表面鍍鉻的結(jié)合力，方法簡單易行，污染浪費(fèi)小。具體的工藝流程為化學(xué)除油→水洗→一次陽極活化→水洗→二次陰極活化→水洗→５０℃熱水洗→鍍鉻。

３１一種碳化鉻復(fù)合膜層及其制備方法
該碳化鉻復(fù)合膜層整體光澤度好，顏色非常均勻，碳化鉻復(fù)合膜層的Ｌ值減小到３０以下，色澤較黑，附著在產(chǎn)品表面時(shí)不容易產(chǎn)生異色。在中性鹽霧中９６ｈ不變色不生銹，橡皮擦耐磨實(shí)驗(yàn)?zāi)軌虺惺埽常担埃?，５００次，耐磨性能以及耐腐蝕性能較好。

３２一種真空電弧離子鍍膜方法
該真空電弧離子鍍膜方法，不用酸堿鹽等溶液、沒有三廢排放、對環(huán)境無污染、適用范圍廣；通過對鍍膜時(shí)工藝參數(shù)的設(shè)定，使膜層與零件基體材料結(jié)合良好，提高了零件的耐磨和耐腐蝕性能；并使膜層厚度均勻，膜層之間的結(jié)合力大大提高。

３３基體表面的碳化鉻多層梯度復(fù)合涂層
與現(xiàn)有單層ＣｒＣ涂層相比，該多層梯度結(jié)構(gòu)可以緩解涂層與基體之間組成、結(jié)構(gòu)和物理性能的差異性，降低涂層應(yīng)力，顯著改善涂層的摩擦磨損性能。一種采用多弧離子鍍技術(shù)，以金屬Ｃｒ?yàn)榘胁模呒儯粒驗(yàn)楣ぷ鳉怏w，Ｃ２Ｈ２和Ｎ２為反應(yīng)氣體制備該碳化鉻多層梯度復(fù)合涂層的方法，通過調(diào)節(jié)各種氣體的流量可控制各層的成分與結(jié)構(gòu)。

３４滲鉻劑及其滲鉻涂層的工藝
通過在現(xiàn)有滲鉻劑中添加耐高溫泡沫無機(jī)材料或高溫煅燒惰性填充物等相應(yīng)措施，克服了傳統(tǒng)工藝中滲鉻劑固結(jié)、生產(chǎn)效率低、滲劑清理難等缺點(diǎn)。

３５料漿滲鉻的滲劑料漿及滲鉻層制備方法
用于提高金屬材料制件表面耐腐蝕、耐磨損、耐高溫性能的滲層的制備。冶金結(jié)合，確保涂層能與基體緊密結(jié)合而不易脫落，制備的滲鉻層的深度在０．００５～０．０２０ｍｍ，滲鉻表面呈銀灰色。

３６采用非平衡磁控濺射物理氣象沉積法
設(shè)備裝有單一金屬鉻靶材，在經(jīng)過除鉻、拋光后的空速管表面沉積單層硬質(zhì)鉻，ＰＶＤ鍍層厚度約為２～６μｍ。采用此發(fā)明可以獲得光亮的空速管表面鍍層，同時(shí)不會破壞內(nèi)部精密元件，可以保證其使用性能。此外，ＰＶＤ鍍鉻層與空速管基體結(jié)合力良好，耐磨、耐蝕性能好。并且對環(huán)境無污染，對人體無傷害。

３７聚合物的表面處理方法
采用電弧離子鍍在聚合物基體表面沉積鉻膜層，得到的鉻膜層呈銀白色外觀，與利用電鍍工藝制得的六價(jià)鉻膜層的外觀類似，同時(shí)結(jié)合離子束轟擊聚合物表面以及利用磁控濺射沉積氮化物硬質(zhì)膜層技術(shù)，大大提高了膜基結(jié)合力與膜層的耐磨防腐性能，在聚合物表面獲得具有強(qiáng)膜基結(jié)合力，且耐磨、耐刮擦性、耐蝕性等性能均優(yōu)異的仿電鍍鉻膜層，從而實(shí)現(xiàn)對聚合物基材的裝飾與防護(hù)功能，是一種無廢水排放的全干式綠色表面處理方法。

３８用于超超臨界汽輪機(jī)１Ｃｒ１１ＭｏＮｉＷ１ＶＮｂＮ材質(zhì)高溫快速滲鉻的滲鉻劑及其制備方法
 高溫快速滲鉻的滲鉻劑及其制備方法，特別是涉及一種用于超超臨界汽輪機(jī)１Ｃｒ１１ＭｏＮｉＷ１ＶＮｂＮ材質(zhì)高溫快速滲鉻的滲鉻劑及其制備方法。解決傳統(tǒng)硼砂鹽浴熔鹽流動性差、腐蝕性強(qiáng)和殘鹽不宜清理的問題。該方法簡單、方便并且實(shí)現(xiàn)了在１０２５－１０３５℃溫度下快速滲鉻。

３９金屬帶（１）或薄片
該金屬帶或薄片包括由覆蓋有至少一個(gè)基于氮化鉻的涂覆層（５）的不銹鋼制成的基體（３）。該基于氮化鉻的涂覆層（５）是有紋理的。

４０獨(dú)特和改善的滲鉻方法
所述方法涉及在基底的選擇區(qū)域上形成局部化滲鉻涂層。與常規(guī)的滲鉻方法相比，鉻擴(kuò)散涂層以控制方式并且另外以產(chǎn)生更少材料浪費(fèi)和不需要掩蔽的方式局部施加至基底的選擇區(qū)域。第二涂層可以選擇性施加在所述基底的其他區(qū)域上。

４１由改性含鉻漿料配方獲得的獨(dú)特且改善的鉻涂層
漿料配方包括選擇的鹵化物活化劑和緩沖材料的組合，鹵化物活化劑和緩沖材料協(xié)同地彼此相互作用以形成鉻擴(kuò)散涂層，涂層具有與由常規(guī)滲鉻方法產(chǎn)生的鉻擴(kuò)散涂層相比較的改善的微結(jié)構(gòu)。涂層可以受控方式精確地局部施加至各種零件上，包括具有含有復(fù)雜幾何結(jié)構(gòu)的內(nèi)部段的那些，而沒有掩蔽其任何部分。

４２改進(jìn)的真空濺鍍表面處理方法
包括對待處理的工件表面進(jìn)行前處理；噴ＵＶ介質(zhì)漆紫外光固化或介質(zhì)粉（介質(zhì)漆）熱固化；真空濺鍍鉻，得到鍍鉻工件。不良率較低、成本低、環(huán)保性良好的改進(jìn)的真空濺鍍表面處理方法，無需再噴清漆保護(hù)。

４３基體表面的富碳碳化鉻納米復(fù)合超硬自潤滑涂層及其制備方法
該復(fù)合涂層由硬質(zhì)相多晶ＣｒＣ與潤滑相納米晶碳ｎｃ－Ｃ組成，采用多弧離子鍍技術(shù)，以金屬Ｃｒ?yàn)榘胁?，高純Ａｒ?yàn)楣ぷ鳉怏w，Ｃ２Ｈ２為反應(yīng)氣體制備該ｎｃ－Ｃ／ＣｒＣ復(fù)合涂層，通過控制基體負(fù)偏壓調(diào)控涂層中ＣｒＣ與碳的結(jié)晶狀態(tài)和納米團(tuán)聚特征，在切削加工刀具以及其它機(jī)械運(yùn)動零部件等領(lǐng)域具有良好的應(yīng)用價(jià)值。

４４碳素鋼或合金鋁水鍍鉻與真空鍍鈦結(jié)合的方法
能夠通過在基材上水鍍鉻后形成致密的氧化鉻層后進(jìn)行真空鍍鈦處理，形成仿金銅等顏色，實(shí)用方便，耐腐蝕性好。

４５氮化鉻（ＣｒＮ）涂層的制備方法
通過在電弧離子鍍膜過程中，在陰極Ｃｒ靶外側(cè)施加一個(gè)軸向磁場線圈，使其產(chǎn)生的軸向磁場對弧斑進(jìn)行約束控制，加速弧斑運(yùn)動速度，在基體表面沉積高質(zhì)量ＣｒＮ涂層的目的，獲得具有較高硬度與高韌性且具有較低摩擦系數(shù)的ＣｒＮ涂層。適合各種刀具、模具及金屬零部件表面沉積ＣｒＮ涂層，以進(jìn)一步提高這種工件的性能及使役壽命。

４６鎂合金電腦外殼的表面處理工藝
屬于電鍍技術(shù)領(lǐng)域。通過對堿洗液、酸洗液和鍍液的選擇以及含量的調(diào)整，使得鍍液性能穩(wěn)定，使得制備的鍍鉻層結(jié)合力強(qiáng)，并且金屬涂層、鍍膜厚度均勻，耐蝕性高；通過調(diào)節(jié)選用適當(dāng)配比的面漆使得噴涂后筆記本外殼達(dá)到烤漆的視覺效果，漆膜的流平好、豐滿度高，耐化學(xué)性好、硬度大。

４７基于表面塑性變形預(yù)處理滲鉻工藝工藝
制備的滲鉻層厚度達(dá)３０μｍ，而且厚度均勻，具有工藝簡便、成本低、涂層結(jié)合力強(qiáng)、適于批量生產(chǎn)等特點(diǎn)。

４８用于在基底上方形成氮化鉻涂層的方法
以提供氮化鉻涂布的制品，制得的氮化鉻涂布的制品每個(gè)使用含有材料層的雙層氮化鉻。具體的含有材料層的雙層氮化鉻提供具有優(yōu)異的反射性和抗裂性的制品。

４９用于經(jīng)歷高溫的基材的鉻基氧化保護(hù)層
涉及用于經(jīng)歷高溫的基材的鉻基氧化保護(hù)層，該層包括含鉻的層體系，層體系包括功能層，該功能層具有包括交替沉積的單層Ａ和單層Ｂ的多層的層結(jié)構(gòu)，其中該單層Ａ的組成不同于該單層Ｂ的組成，并且單層Ａ至少大部分包含氮化鋁鉻或最好是氮化鉻，而單層Ｂ至少大部分包含氧化鋁鉻或氧化鉻、或者最好是氮氧化鋁鉻或更優(yōu)選的是氮氧化鉻。

５０鋼鐵表面雙輝滲Ｃｒ后離子注Ａｌ制備的復(fù)合涂層及其方法
復(fù)合技術(shù)的目的在于發(fā)揮兩種表面改性技術(shù)各自優(yōu)勢，并互相彌補(bǔ)不足，即利用雙輝技術(shù)滲Ｃｒ所得涂層與基體結(jié)合力優(yōu)異且合金元素呈梯度分布的優(yōu)勢，并采用離子注Ａｌ技術(shù)避免雙輝技術(shù)滲Ａｌ易產(chǎn)生反濺射的現(xiàn)象，實(shí)現(xiàn)了合金元素能夠按照預(yù)期設(shè)計(jì)分布。在鋼鐵表面制備的高性能復(fù)合涂層，可大幅度提高材料表面強(qiáng)度、硬度、耐磨性、耐腐蝕性和抗高溫氧化性。

５１小軸零件鍍鉻工藝
具有設(shè)備簡單、投資少；對設(shè)備的損害小，使得使用壽命相應(yīng)延長；可以避免金屆基體的晶粒粗大，鍍鉻后小軸的抗彎曲韌性可以達(dá)到４５度角而不折斷；可確保零件之間鍍鉻層的均勻性，大幅度提高了小軸的耐磨性能和耐蝕性能。

５２防污鍍鉻產(chǎn)品的生產(chǎn)方法
生產(chǎn)方法進(jìn)行鍍鉻處理后，保證了工件表面具有一層防污層，有效的提高了工件的防污性能，提高了工件表面的光潔度，減少了現(xiàn)有工件在鍍鉻前鍍銅或鍍鎳的生產(chǎn)工藝，減少了生產(chǎn)成本，提高了生產(chǎn)效率，由于ＰＶＤ鍍鉻裝置能產(chǎn)生較高的等離子體密度和功率密度，通過ＰＶＤ鍍鉻裝置能使鉻和鈦均勻的分布在工件表面，提高了鉻和鈦的附著在工件上，提高了整體的硬度。

５３鉻靶材及其組合的制造方法
在對鉻粉末進(jìn)行預(yù)壓成型處理后，直接對成型坯料進(jìn)行真空熱壓燒結(jié)，而無需熱等靜壓處理過程。這樣縮短了鉻靶材制造時(shí)間，且無需用到熱等靜壓設(shè)備，顯著降低了鉻靶材生產(chǎn)成本。

５４氮化鉻穩(wěn)定氧化鋯的真空鍍膜材料及其制備方法
氮化鉻穩(wěn)定氧化鋯真空鍍膜材料解決傳統(tǒng)氧化鋯鍍膜材料鍍膜過程中的不穩(wěn)定和折射率不均勻性問題，提高氧化鋯薄膜的損傷閾值。
 
５５用于聚合物型基材的基于鉻的反射涂層
其中所述涂層具有２００ｎｍ或更小的厚度，并且是鉻與摻雜材料的合金，所述摻雜材料選自六方密堆積的過渡金屬，所述合金具有主要的體心立方相與次要的Ω六方密堆積相共存的晶體結(jié)構(gòu)。

５６強(qiáng)磁性材料濺射靶技術(shù)工藝       
其含有包含鈷；在保持高密度的同時(shí)使氧化物相的顆粒均勻地微細(xì)化且粉粒產(chǎn)生少的含有鉻氧化物的強(qiáng)磁性材料濺射靶。

５７強(qiáng)磁性材料濺射靶
其含有基體相和至少包含鉻氧化物的氧化物相，提供保持高密度、并且使氧化物相顆粒均勻地微細(xì)化、粉粒產(chǎn)生少的含有鉻氧化物的強(qiáng)磁性材料濺射靶。

５８鉻基鍍膜及其制備方法
其結(jié)構(gòu)為Ｃｒ－Ｃｒ２Ｎ兩相化合物層，有利于鍍層內(nèi)應(yīng)力的釋放，從而在減小內(nèi)應(yīng)力的同時(shí)降低鍍層表面缺陷的產(chǎn)生，能夠?qū)崿F(xiàn)大面積范圍內(nèi)的
厚度均勻性。制備得到的所述鉻基鍍膜，表面缺陷少、沒有微裂紋出現(xiàn)，能夠?qū)崿F(xiàn)鍍層在超大面積范圍內(nèi)具有均勻的厚度，同時(shí)還具備高硬度、耐磨損、耐腐蝕的特性；可在較短時(shí)間內(nèi)將金屬底材表面以及金屬底材圖紋內(nèi)部的鍍層完全清除，操作簡單易行。

５９碳鋼基體表面化學(xué)氣相反應(yīng)法制備碳化鉻涂層的方法
采用密閉系統(tǒng)下在碳鋼基體表面化學(xué)氣相反應(yīng)原位形成碳化鉻反應(yīng)擴(kuò)散涂層，形成的涂層致密光滑均勻，涂層與基體結(jié)合良好，無需復(fù)雜的真空或氣氛爐實(shí)現(xiàn)高溫下避免碳鋼基體的氧化。

６０具有硬質(zhì)合金、金屬陶瓷、鋼或高速鋼（ＨＳＳ）基底，并在基底上通過ＰＶＤ工藝沉積的多層涂層的切割工具
所述多層涂層包括由一個(gè)設(shè)置在另一個(gè)之上的一個(gè)或多個(gè)相同的或不同的至少包含鋁（Ａｌ）和任選地一種或多種選自Ａｌ、Ｃｒ、Ｓｉ、Ｙ、Ｒｕ和Ｍｏ的其它金屬的氮化物層或碳氮化物層組成的基體層，以及含鉻的氧化功能層。改進(jìn)含鉻功能層的連結(jié)問題。

６１帶ＰＶＤ納米硬鉻涂層的金屬工件
包括工件本體，工件本體上鍍有ＰＶＤ納米硬鉻涂層，ＰＶＤ鍍前處理為中性水處理，對環(huán)境無污染，用水量小，符合國家減能節(jié)排的標(biāo)準(zhǔn)；ＰＶＤ納米硬鉻可改善普通金屬表面的特性，在模具上具有很實(shí)用的應(yīng)用價(jià)值。

６２高致密鉻合金靶材的生產(chǎn)方法
能夠成功獲得成分與密度均勻、晶粒大小小于１００微米、純度大于９９．９％、相對密度大于９９％、氧含量小于１０００ｐｐｍ的高致密鉻合金靶材。此外，本發(fā)明方法生產(chǎn)成本低，工藝過程簡單易控。

６３鋼鐵、鋅基合金真空離子鍍鉻工藝代替現(xiàn)行電鍍鉻工藝
離子鍍鉻工藝代替現(xiàn)行電鍍裝飾鉻工藝和離子鍍超硬鉻代替電鍍硬鉻。膜層中沒有Ｎｉ元素，對人體無害；沒有三廢排放無須治理；附著性好，致密性好，耐蝕性強(qiáng)，硬度高耐磨性好。

６４高致密鉻靶的熱壓方法
該方法包括依次進(jìn)行的：抽真空、分階段升溫升壓、保壓爐冷、熱鍛、退火、熱軋、機(jī)加工，七個(gè)步驟。通過設(shè)計(jì)合理的工藝步驟，篩選穩(wěn)定的工藝參數(shù)，達(dá)到了低成本制得大型高致密鉻靶的目的。

６５等離子體鍍鉻滲氮鐵基燃料電池雙極板材料的制備方法
它涉及一種雙極板材料的制備方法。要解決現(xiàn)有電鍍方法不銹鋼表面鍍鉻存在疏松、穿孔的問題。導(dǎo)電性能好：接觸壓力為１５０Ｎ／ｃｍ２時(shí)，接觸電阻＜２０ｍΩ·ｃｍ２；耐腐蝕性能高：燃料電池運(yùn)行環(huán)境下，腐蝕電位＞０．０８Ｖ，腐蝕電流＜１．８２μＡ／ｃｍ２；無疏松、穿孔；成本低。本發(fā)明主要用于制備燃料電池雙極板材料。

６６用于金屬管形零件內(nèi)表面改性強(qiáng)化的直流電場增強(qiáng)粉末法滲鉻方法與裝置
  該法與現(xiàn)行方法相比，在７００～１０００℃范圍的不同溫度，滲速至少可提高０．５～４倍（取決于具體工藝參數(shù)）。該方法與裝置可提高金屬管形零件內(nèi)表面的粉末法滲鉻的滲速、降低滲鉻溫度、提高滲鉻劑的利用率。

６７用于提高金屬零部件抗腐蝕、抗氧化及抗磨損能力的交流電場增強(qiáng)粉末法滲鉻的方法與裝置
其采取在粉末滲鉻劑中放置兩個(gè)平行的板狀電極，兩電極分別由耐高溫導(dǎo)線聯(lián)接在一個(gè)電壓在０～２５０伏范圍連續(xù)可調(diào)的５０Ｈｚ交流電源上，被處理零件位于兩電極之間，電極和零件與滲鉻劑一起密封在滲箱中，置于熱處理爐中加熱，當(dāng)爐溫到設(shè)定值后，在兩極間施加適當(dāng)強(qiáng)度交流電場，即可實(shí)現(xiàn)零件的快速滲鉻。

６８鑄鐵真空鍍鉻方法，屬于表面處理技術(shù)
依次包括基材表面預(yù)處理、表面噴涂、真空鍍鉻、有機(jī)涂料面涂，用這種方法得到的鑄鐵鍍鉻制品，在性能上優(yōu)于傳統(tǒng)的電鍍鍍鉻方法，膜層鍍敷性好、致密性高，與現(xiàn)有電鍍法相比，工序簡單，成本低。

６９碳氮鈦鉻復(fù)合涂層表面處理高爾夫球頭的方法
它是在真空條件下，將純金屬鈦，鉻，石墨氣化然后通入氬氣、氮?dú)夂鸵胰矚怏w，并形成等離子體，通過合金化原理，利用物理氣相沉積的方法，在高爾夫球頭表面形成一種碳氮鈦鉻的復(fù)合涂層。處理后的高爾夫球頭具有珍珠般的亮黑色外觀，良好的耐溶劑性能、耐腐蝕性、耐沖擊性能和良好的金屬附著牢固度。完全滿足高爾夫球頭的表面質(zhì)量要求。

７０關(guān)于以鉻擴(kuò)散的方式生產(chǎn)具備耐熱、耐蝕、耐酸、耐磨性特殊鋼材時(shí)所需要的鉻擴(kuò)散浸透體以及鉻擴(kuò)散浸透法制作特殊鋼的生產(chǎn)方法
特別是為了把鋼鐵或鑄鐵做成的產(chǎn)品浸在以硼砂（ｂｏｒａｘ）鐵鉻合金（ｆｅ－Ｃｒ），氧化硼（ＢｘＯｙ），氧化鉻（ＣｒｘＯｘ），氯化納（ＮａＣｌ），促進(jìn)劑構(gòu)成的鉻擴(kuò)散浸透液體里，使鉻擴(kuò)散浸透到產(chǎn)品中，制造具備耐熱、耐蝕、耐酸、耐磨性的特殊鋼。

７１平整輥表面納米晶強(qiáng)化點(diǎn)鍍鉻毛化方法
在平整輥的表面形成納米晶強(qiáng)化層，并進(jìn)行點(diǎn)鍍鉻及結(jié)合硬化處理。其采用平整輥表面納米晶強(qiáng)化、點(diǎn)鍍鉻溫噴射表面粘附和表面粘附鉻結(jié)合硬化處理三個(gè)步驟，達(dá)到特定的粗糙度、ＰＣＩ值等表面紋理要求的目的。本發(fā)明技術(shù)表面點(diǎn)鍍鉻與基體的結(jié)合力良好，不產(chǎn)生環(huán)境污染問題。

７２鉻合金靶材及具有硬質(zhì)薄膜的金屬材料
具體而言涉及鉻合金靶材，由鉻及硅組成，或由鉻及鍺組成，其中鉻所占的重量百分比為５％至９５％，且當(dāng)經(jīng)由物理氣相濺射工藝所產(chǎn)生的薄膜的厚度大于或等于２微米時(shí)，上述薄膜的維氏硬度值分別為Ｈｖ８００至Ｈｖ１２００及Ｈｖ８００至Ｈｖ１０００。上述的靶材可用來產(chǎn)生具有硬質(zhì)薄膜的金屬材料，此金屬材料包含金屬基板以及鉻硅合金薄膜，或包含金屬基板以及鉻鍺合金薄膜。

７３在正常和特定環(huán)境下具有耐腐蝕性并且鍍鉻后不需要額外處理的鍍鉻部件，以及提供此類鍍鉻部件的制造方法
鍍鉻部件１包括：基體２；亮鎳鍍層５ｂ，其形成于整個(gè)基體２上；貴電勢鎳鍍層５ａ，其形成于亮鎳鍍層５ｂ上。亮鎳鍍層５ｂ和貴電勢鎳鍍層５ａ之間的電勢差在４０ｍＶ至１５０ｍＶ的范圍內(nèi)。

７４直流電場作用下低溫快速固體粉末滲鉻方法
涉及金屬表面化學(xué)熱處理技術(shù)領(lǐng)域。使用與現(xiàn)行傳統(tǒng)固體粉末滲鉻相同滲劑，可采用低溫加熱、短時(shí)保溫獲得與常規(guī)滲鉻同樣的滲鉻層厚度。當(dāng)采用與常規(guī)滲鉻同樣的加熱溫度和保溫時(shí)間時(shí)，滲鉻層厚度可增加３－８倍，從而節(jié)約能源，降低生產(chǎn)成本。

７５鍍鉻薄膜
  可以改善所謂的硬度容易欠缺的氮化鉻離子鍍薄膜的特性，且在近年來柴油發(fā)動機(jī)所要求的標(biāo)準(zhǔn)越來越高的耐磨蝕性、耐燒蝕性方面優(yōu)良，進(jìn)而在耐欠性方面優(yōu)良。

７６具有鍍鎳工序Ｓ３２、鍍鎳水洗工序Ｓ３３、鍍鉻工序Ｓ３４，鍍鉻水洗工序Ｓ３５的鍍鉻產(chǎn)品的制造方法
在鍍鉻層３上形成鈍態(tài)被膜９３之前的鍍鉻水洗工序Ｓ３５中，進(jìn)行在工件Ｗ的外周面形成由能夠與鉻結(jié)合且含有氟的聚合物構(gòu)成的防污被膜４的防污處理工序Ｓ３５。具有優(yōu)秀的防污性的同時(shí)，因鏡面光澤具有優(yōu)秀的裝飾性的防污鍍鉻產(chǎn)品。