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１    一種用于碳化硅襯底研磨用單晶鉆石液的制備方法

        有別于傳統(tǒng)單晶鉆石液，該研磨液搭配鑄鐵盤使用，并且采用水基體系，加入了聚丙烯酸改性的三維立體懸浮劑，確保單晶金剛石顆粒能均勻分布，并且能形成穩(wěn)定液膜，提高研磨速率，從傳統(tǒng)的０．５ｕｍ／ｍｉｎ提高到１．０ｕｍ／ｍｉｎ以上；該體系采用亞硝酸鹽、磷酸鹽、硅酸鹽做為分散劑及防銹劑，確保金剛石顆粒的分散性能，避免軟團(tuán)聚的形成；并采用了超尺寸顆粒分離技術(shù)，對(duì)超大顆粒金剛石進(jìn)行分離，避免劃傷不良；采用高速乳化分散頭對(duì)水基體系進(jìn)行攪拌分散，確保液體的均一性。

２    一種多晶金剛石用拋光液及拋光方法

       提供多晶金剛石用拋光液包括金剛石微粉、高錳酸鉀和水，金剛石微粉、高錳酸鉀和水的質(zhì)量比為（０．５～２）：（３～１０）：１００，多晶金剛石用拋光液采用稀硫酸調(diào)節(jié)ｐＨ至２～５。利用大粒徑的金剛石微粉和水混合配制研磨液對(duì)待加工多晶金剛石樣品進(jìn)行研磨，然后采用拋光液對(duì)研磨后的多晶金剛石樣品進(jìn)行拋光。能夠?qū)崿F(xiàn)多晶金剛石表面的高效拋光，且獲得金剛石膜表面超光滑，結(jié)構(gòu)無(wú)損傷，表面粗糙度可低至１ｎｍ以下，能夠滿足制造超硬切削工具、半導(dǎo)體、紅外光學(xué)窗、高性能散熱器等領(lǐng)域的基本要求。

３    一種用于碳化硅襯底ＤＭＰ的團(tuán)聚鉆石研磨液的制備方法

        其中制備方法包括以下步驟：Ｓ１、原料處理，包括：原料分選、原料酸洗、原料漂洗、原料烘干；Ｓ２、霧化干燥；Ｓ３、燒結(jié)成型；Ｓ４、精密分選；Ｓ５、干燥；Ｓ６、研磨液制備，包括：粉體改性、將改性后的原料配比稱重、將稱重后的原料攪拌混合、罐裝，得到團(tuán)聚鉆石研磨液。通過(guò)采用團(tuán)聚金剛石以及其他軟磨材料制成復(fù)合磨料，采用超聲水煮法對(duì)原料進(jìn)行改性，通過(guò)添加ＰＶＰ作為分散劑等，進(jìn)一步地提高研磨的效率和研磨后的產(chǎn)品質(zhì)量。

４    一種懸浮拋光液及其制備方法和碳化硅的拋光方法

       提供的懸浮拋光液懸浮能力好、單位時(shí)間內(nèi)碳化硅移除率高和表面粗糙度低、不易堵塞拋光設(shè)備管路、不污染拋光墊、不影響碳化硅器件性能并且不易劃傷碳化硅。

５    一種用于增材制造的金屬粉末研磨液、研磨方法

       研磨液包括以下組分：油性有機(jī)溶劑７０?８０份；懸浮劑１０?１５份；磨料１５?２０份；其中，懸浮劑包括大環(huán)多元醚或大環(huán)聚醚；磨料為絡(luò)合劑和表面活性劑包覆的金剛石顆粒；懸浮劑與絡(luò)合劑交聯(lián)。提供的技術(shù)方案采用絡(luò)合劑和表面活性劑對(duì)金剛石顆粒進(jìn)行表面包覆，進(jìn)而配合懸浮劑使得磨料的懸浮性能更好，不容易沉底，提高了研磨的效率。

６    一種用于碳化硅襯底研磨用團(tuán)聚鉆石液的制備方法

       磨料一為團(tuán)聚金剛石研磨粉；磨料二為氧化鋁粉；研磨介質(zhì)為醇類化合物；極壓劑為硫化物或磷化合物的任意一種；研磨助劑由潤(rùn)滑劑１?８％、冷卻劑５?７％之間、清潔劑０．１?１％、防銹劑０．０５?０．１％組成；消泡劑為聚醚類消泡劑；表面活性劑為二烷基硫酸鹽、十二烷基苯磺酸鹽或十二烷基胺氧化物任意一種；ＰＨ調(diào)節(jié)劑為有機(jī)酸或無(wú)機(jī)酸。在降低工藝成本的同時(shí)，能保持研磨效率不變，且研磨后表面質(zhì)量得到進(jìn)一步地提高。

７    一種金剛石用拋光液及金剛石襯底的拋光方法

       屬于金剛石拋光技術(shù)領(lǐng)域。該拋光液包括金剛石微粉、三價(jià)鐵鹽、雙氧水和水，所述拋光液中金剛石微粉、三價(jià)鐵鹽、雙氧水和水的重量比為（０．０２～０．１）：（０．０２～０．１）：（０．０５～０．１）：１，雙氧水中過(guò)氧化氫的濃度為３０％。拋光液通過(guò)使用微溶于水的鐵鹽來(lái)實(shí)現(xiàn)鐵源的供給，能夠在雙氧水的存在下實(shí)現(xiàn)羥基自由基的穩(wěn)定供應(yīng)，從而有效去除金剛石表面的雜質(zhì)，實(shí)現(xiàn)對(duì)金剛石表面的原子級(jí)粗糙度的控制。

８    一種金剛石用研磨液及金剛石襯底的研磨方法

       屬于金剛石研磨技術(shù)領(lǐng)域。該研磨液包括金剛石微粉、碳化硼微粉、雙氧水和水，所述研磨液中金剛石微粉、碳化硼微粉、雙氧水和水的重量比為（０．０８～０．１５）：（０．０８～０．１５）：（０．０５～０．１０）：１，所述雙氧水中過(guò)氧化氫的濃度為３０％。研磨方法中采用含有雙氧水的研磨液與表面固定有金剛石微粉的研磨盤相互協(xié)同，能夠?qū)崿F(xiàn)對(duì)金剛石襯底的均勻且高效研磨，顯著降低研磨后的金剛石襯底的粗糙度并提高成品率，提高了金剛石襯底的應(yīng)用前景。

９    再造金剛石研磨液和廢棄金剛石研磨液的回收再利用方法及應(yīng)用該方法的裝置

        提供的再造金剛石研磨液，其包括添加劑和廢棄金剛石研磨液；提供的回收再利用方法能夠?qū)U棄金剛石研磨液回收得到再造金剛石研磨液，回收得到的金剛石研磨液的性能能夠恢復(fù)至和使用前的性能相當(dāng)，符合再利用要求；通過(guò)提高廢棄研磨液的質(zhì)量，實(shí)現(xiàn)研磨液的循環(huán)利用，從而降低了機(jī)械研磨工藝的成本，且循環(huán)利用的工藝簡(jiǎn)單，易于實(shí)現(xiàn)操作。

１０ 一種抗腐蝕金剛石研磨液及其制備方法

        按重量份數(shù)計(jì)，所述研磨液包括以下原料：改性金剛石０．５?５份，氧化劑０．２?５份，ｐＨ調(diào)節(jié)劑０．１?３份，緩蝕劑２?５份，潤(rùn)滑劑０．１?２份，穩(wěn)定劑０．３?５份，去離子水７５?９０份。提供的研磨液具有抗腐蝕以及高分散性的性能，可以廣泛應(yīng)用于精密研磨拋光領(lǐng)域，具有較好的商業(yè)應(yīng)用價(jià)值。

１１ 一種金剛石研磨液及其制備方法

        該研磨液是由改性磨料、有機(jī)溶劑和表面活性劑組成。該金剛石研磨液具有研磨效率高、磨料分散均勻，懸浮穩(wěn)定性好，長(zhǎng)時(shí)間放置不會(huì)產(chǎn)生沉降分層現(xiàn)象，解決了市面上產(chǎn)品存在的金屬腐蝕及團(tuán)聚、分層等問(wèn)題，對(duì)環(huán)境無(wú)污染。

１２ 一種金剛石研磨液及其制備方法

        由以下重量份的原料制備而成：金剛石微粉０．５～６份、高分子微球０．０２５～２份、分散劑０．１～５份、懸浮劑０．２～５份、ＰＨ調(diào)節(jié)劑０～１份、去離子水６０～９０份。金剛石研磨液組成配比科學(xué)，能夠提高熔石英研磨加工的效率，減少深劃傷，改善表面加工質(zhì)量，縮短加工周期。

１３ 一種氮化鎵晶圓的綠色拋光液制備方法

        一種以芬頓反應(yīng)為氧化劑、金剛石為磨粒的氮化鎵晶圓的綠色拋光液，采用的拋光液打破了芬頓反應(yīng)ｐＨ不大于３的限制，使拋光液在偏中性環(huán)境中仍有較好的氧化性，且拋光液穩(wěn)定性較好，綠色無(wú)污染，拋光效果好。

１４ 一種堿性?耐熱?多尺寸磨粒磁流變拋光液及其制備方法

        涉及超精密加工技術(shù)領(lǐng)域，為解決現(xiàn)有磁流變拋光液大都穩(wěn)定性較差，較高溫度下固體顆粒易發(fā)生沉降，且磁流變拋光液的磨粒大都為單一種類和尺寸，限制材料去除率的進(jìn)一步提升。提升了材料去除率，提高石英玻璃元件的拋光效率；并進(jìn)一步降低拋光粗糙度，有利于加工出高質(zhì)量表面。

１５ 一種適用于塑膠型眼鏡材料的研磨膏制備方法

        減少了常規(guī)的金剛石微粉的添加量，加入了一定量的納米金剛石＠硅化釹鉭多孔微球，目的在于改善現(xiàn)有金剛石微粉性能的不足。經(jīng)過(guò)后續(xù)檢測(cè)發(fā)現(xiàn)，配方得到的研磨膏，不僅分散性更強(qiáng)，不易產(chǎn)生沉淀，而且去除率得到增強(qiáng)，拋光效果也更好。

１６ 一種摻雜金屬納米顆粒的單晶金剛石拋光液制備方法

        包括單晶金剛石微粉５０?１５０份，金屬納米顆粒１０?３０份，分散二氧化硅微球５?１０份，氧化石墨烯１５?３０份，潤(rùn)濕劑１?２份，表面活性劑１?２份，防銹劑１?２份，消泡劑１?２份，黏度調(diào)節(jié)劑１?２份，質(zhì)量分?jǐn)?shù)為２６?３０％的雙氧水溶液１０００?４０００份，濃度為０．１?１ｍｏｌ／Ｌ的硫酸鐵溶液０．１?１０份。其中分散二氧化硅微球以水楊酸鈉和十六烷基三甲基溴化銨為結(jié)構(gòu)導(dǎo)向劑，以三乙醇胺為催化劑，將正硅酸乙酯水解后膠束自組裝，再經(jīng)煅燒得到。

１７ 一種具有光催化輔助功效的拋光液及其制備方法

       具有較高的懸浮穩(wěn)定性，拋光效率高，散熱快，可適用于硬質(zhì)合金、陶瓷、光學(xué)玻璃、寶石、集成電路等多種材料的拋光加工；本發(fā)明利用超紫外線進(jìn)行光催化來(lái)進(jìn)行輔助來(lái)提高拋光液中粒子的動(dòng)能，通過(guò)機(jī)械作用與化學(xué)作用進(jìn)行緊密的結(jié)合，從而顯著的彌補(bǔ)了機(jī)械作用產(chǎn)生的較大尖凸出現(xiàn)，造成粗糙度增加的現(xiàn)象的發(fā)生，有效降低了機(jī)械作用產(chǎn)生的多種缺陷，大幅度的提高了表面拋光質(zhì)量。

１８ 一種微納氣泡輔助光催化拋光單晶金剛石雙組分拋光劑及其制備方法

        它包括Ａ組分和Ｂ組分，所述Ａ組分包括催化劑、氧化劑１、ｐＨ調(diào)節(jié)劑、微納氣泡水，所述Ｂ組分為磨料、微納氣泡水、氧化劑２。使用時(shí)將Ａ組分與Ｂ組分以一定速率同步滴加于工件表面，在紫外光照的條件下實(shí)現(xiàn)材料的高效去除。拋光劑成分簡(jiǎn)單、組分無(wú)毒、對(duì)環(huán)境友好。采用雙組分的形式，有效的避免了拋光劑可能失效的問(wèn)題，保留了拋光劑強(qiáng)氧化性能，使其在單晶金剛石拋光過(guò)程中更好的發(fā)揮作用。

１９ 一種拋光液及ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶體拋光方法

       該拋光液可有效均衡ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶體化學(xué)機(jī)械拋光過(guò)程中的機(jī)械作業(yè)和化學(xué)反應(yīng)作用，使得ＣＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＮＨ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞ＰｂＩ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞晶體化學(xué)機(jī)械拋光處理過(guò)程高效、穩(wěn)定，并大幅提高了晶體化學(xué)機(jī)械拋光的質(zhì)量，獲得優(yōu)質(zhì)的拋光表面，提高晶體的物理、電學(xué)性能，實(shí)用性好。

２０ 一種拋光硅片的金剛石拋光液制備方法

       各質(zhì)量比的混合后攪拌均勻，后超聲設(shè)備中震蕩１０?１５ｍｉｎ，長(zhǎng)時(shí)間存放基本不產(chǎn)生沉淀，拋光質(zhì)量穩(wěn)定，沒(méi)有對(duì)人體有害成分，有利環(huán)保。

２１ 一種研磨液、制備方法及用途

       適用于藍(lán)寶石、氮化鋁、氮化鎵或單晶金剛石襯底的精密研磨。研磨液在長(zhǎng)時(shí)間剪切作用下，磨料仍保持良好的懸浮，具有循環(huán)壽命長(zhǎng)，磨削效率高的優(yōu)點(diǎn)；研磨液具有優(yōu)異的分散作用，能有效地將研磨過(guò)程產(chǎn)生的納米顆粒分散開(kāi)，避免吸附到磨料表面，避免產(chǎn)生團(tuán)聚大顆粒，降低研磨產(chǎn)生的劃傷。因此，本發(fā)明研磨液具有良好的應(yīng)用前景和大規(guī)模工業(yè)化推廣潛力。

２２ 一種金剛石研磨液的制備方法

        采用堿或酸處理將金剛石團(tuán)聚體預(yù)分散，通過(guò)加入潤(rùn)濕劑、分散穩(wěn)定劑和抗防腐劑使金剛石穩(wěn)定分散，制備了一種金剛石研磨液。在該分散體系中，金剛石能夠穩(wěn)定、均勻分散。該方法制備的金剛石研磨液可以廣泛地應(yīng)用于精密研磨拋光領(lǐng)域。

２３ 用于拋光例如具有大于約６的莫氏硬度的硬質(zhì)材料的硬質(zhì)材料的經(jīng)改進(jìn)漿液

        示范性硬質(zhì)表面包含藍(lán)寶石、碳化硅、氮化硅及氮化鎵及金剛石。在組合物及方法中，令人驚訝地發(fā)現(xiàn)包括添加劑的唯一組合的新穎組合物在漿液中均勻地分散具有廣泛范圍的顆粒大小的金剛石顆粒。一般堿性漿液組合物能夠利用大于４０微米的金剛石顆粒大小同時(shí)實(shí)現(xiàn)良好移除速率。在此類情況下，當(dāng)與適合墊一起利用時(shí)，以均勻表面損害對(duì)碳化硅、氮化硅、藍(lán)寶石、氮化鎵及金剛石進(jìn)行快速且平坦研磨是可行的。

２４ 一種金剛石研磨膏及其制造方法

       金剛石研磨膏主要由以下組分組成：研磨微粉、液體油和研磨助劑；通過(guò)加入球形氧化鋁粉來(lái)改善金剛石微粉的分散性能及研磨性能，同時(shí)，在研磨過(guò)程中球形氧化鋁粉也起到了降低研磨盤盤溫的作用；通過(guò)加入金屬銅粉、潤(rùn)滑劑、抗磨劑并采用特定的液體油等方式來(lái)降低研磨過(guò)程中的研磨盤盤溫以及降低被加工工件的表面粗糙度；通過(guò)加入特定的雙親性有機(jī)物來(lái)改善金剛石研磨膏的清洗性能；通過(guò)添加增稠劑來(lái)調(diào)節(jié)研磨膏的稠度，進(jìn)而改善其使用性能及研磨性能。

２５ 一種穩(wěn)定全懸浮研磨用金剛石研磨液制備方法

       相較于現(xiàn)有的半懸浮或無(wú)懸浮狀態(tài)的研磨液，產(chǎn)品具有更好的產(chǎn)品品質(zhì)觀感；將其應(yīng)用于研磨加工時(shí)性能穩(wěn)定，有更好的加工效率和加工表面質(zhì)量；應(yīng)用于研磨拋光液的批量化生產(chǎn)時(shí)，無(wú)沉降聚集造成灌裝不均的隱憂，可實(shí)現(xiàn)批量化穩(wěn)定生產(chǎn)。

２６ 一種高效低損傷金剛石研磨液制備方法

       該金剛石研磨液用于雙面研磨時(shí)，可均勻分布于硬質(zhì)研磨盤面，無(wú)返稀或分布缺失問(wèn)題發(fā)生，可減少劃傷產(chǎn)生，避免局部溫度過(guò)高造成幾何參數(shù)失控；同時(shí)其增稠減粘特性，在形成軟性緩沖層保障效率抑制劃傷的同時(shí)，也可實(shí)現(xiàn)研磨液的及時(shí)更新，穩(wěn)定研磨加工性能。

２７ 一種濃縮型水性研磨助劑制備方法

        將濃縮型水性研磨助劑應(yīng)用于碳化硅、氮化鎵晶圓研磨加工，可大大降低直接使用金剛石研磨液成品的加工成本；同時(shí)可對(duì)金剛石磨料顆粒進(jìn)行快速分散懸浮，并形成具有觸變特性的穩(wěn)定懸浮液。潤(rùn)滑劑在使用過(guò)程中可以有效降低研磨過(guò)程中的摩擦阻力，增加潤(rùn)滑性，有效改善研磨表面質(zhì)量，并大大縮短后道晶圓拋光時(shí)間。

２８ 一種復(fù)合型拋光液及其制備方法

        包覆型氧化鈰為表面包覆有聚合物的磨料氧化鈰，聚合物為六亞甲基四胺、甲氧基聚乙二醇甲基丙烯酸酯、甲基丙烯酸酯、４?羥基苯并三唑丁酯中的任意兩種。技術(shù)方案能夠有效提升碳化硅器件表面的機(jī)械去除速率，降低碳化硅器件表面粗糙度，并能夠降低劃傷風(fēng)險(xiǎn)以提升碳化硅器件表面拋光質(zhì)量。

２９ 一種油性金剛石拋光液、其制備方法及用途

        金剛石磨料為類多晶、多晶、單晶和聚晶中的兩種或多種混合磨料。所述油性劑為烷烴與礦物油的混合物。本發(fā)明還公開(kāi)了油性金剛石拋光液的制備方法，及其在藍(lán)寶石拋光領(lǐng)域的用途。油性金剛石拋光液安全、環(huán)保、高效，對(duì)藍(lán)寶石襯底無(wú)腐蝕。在相同磨料下，油性金剛石拋光液與水性拋光液相比較，具有較高的移除率以及較低的粗糙度。

３０ 一種金剛石拋光液及其制備方法

        金剛石拋光液的制備方法包括以下步驟：以金剛石粉末、脂類、醇類、脂肪酸和礦物油為原料，制備拋光膏；將所述拋光膏分散于十二烷基磺酸鈉溶液中，得到拋光中間液；將所述拋光中間液與水混合，得到金剛石拋光液。解決了現(xiàn)有的拋光材料對(duì)鎳質(zhì)模仁表面進(jìn)行拋光的拋光效果較差的技術(shù)問(wèn)題。

３１ 一種混合磨料、包含其的光學(xué)石英玻璃拋光液、制備方法及用途

       包括重量配比如下的各組分：混合磨料０．５?２份；分散劑１?４份；ｐＨ調(diào)節(jié)劑０．１?１份；絡(luò)合劑２?１０份；潤(rùn)濕劑０．５?２份；超純水３０?８０份?；旌夏チ蠟榻饎偸徒饘傺趸锏膹?fù)合磨料，包含該混合磨料的拋光液適用于石英玻璃的拋光，對(duì)石英玻璃無(wú)腐蝕，同時(shí)具有較高的去除率以及低于１ｎｍ的粗糙度。

３２ 一種添加納米金屬的單晶金剛石高精度拋光劑制備方法

       單晶金剛石拋光劑的制備技術(shù)領(lǐng)域。解決現(xiàn)有方法針對(duì)單晶金剛石各向異性，并滿足不同原子面拋光需求。拋光劑由包覆石墨烯的納米金屬顆粒、溶劑、分散劑、ｐＨ調(diào)節(jié)劑和表面活性劑合成。在拋光過(guò)程中，本發(fā)明制備的拋光劑可以催化單晶金剛石石墨化、促進(jìn)化學(xué)效應(yīng)、削弱機(jī)械作用帶來(lái)的金剛石表面解理剝落、減少大顆粒金剛石磨屑的形成，防止對(duì)拋光面造成二次損傷。

３３ 一種氧化鋯陶瓷手機(jī)背板減薄用金剛石研磨液的制備方法

       將原料表面多刃化金剛石微粉置于容器中，然后加入去離子水和分散劑超聲攪拌均勻，然后濕法研磨分散，得到金剛石微粉懸浮液；在所得金剛石微粉懸浮液中依次加入保濕劑、懸浮劑、消泡劑分別進(jìn)行攪拌均勻；消泡劑加入后的金剛石微粉懸浮液中加入ｐＨ調(diào)節(jié)劑攪拌均勻，調(diào)節(jié)其ｐＨ值為７～１０，最后加入去離子水配制得到表面多刃化金剛石微粉研磨液。本發(fā)明的金剛石研磨液在研磨拋光過(guò)程中，采用表面多刃化金剛石微粉，具有高效減薄，并能得到低的表面粗糙度。

３４ 一種用于超硬材料的固體金剛石研磨劑及制備方法

       軟磨劑為氧化鋁、分散劑為乙醇、水和甘油、賦形劑為硬脂酸、芳香劑為檸檬香精、抗氧化劑為改性納米氧化鋅、光亮劑為硼硅酸鈉鈣、增稠劑為羥甲基纖維素鈉、膨脹劑為月桂醇硫酸酯鈉，不僅增強(qiáng)了研磨效果，使用直接方便，同時(shí)解決了傳統(tǒng)研磨劑在使用時(shí)需要加稀釋劑再使用、不能水洗、難以清潔、存放時(shí)間短、性能不穩(wěn)定、使用時(shí)容易四處飛濺問(wèn)題。

３５ 一種用于單晶金剛石化學(xué)機(jī)械拋光加工的拋光液及其制備方法

        制備方法包括向單晶金剛石微粉加入Ｈ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞Ｏ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞溶液、震蕩、將配置好的Ｆｅ＜ｓｕｂ＞２＜／ｓｕｂ＞（ＳＯ４）＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞溶液添入，調(diào)整其ＰＨ值至２～４，得到拋光液。提供的拋光液具有較大的氧化能力和去除率，實(shí)現(xiàn)了金剛石的高質(zhì)高效加工。

３６ 一種可懸浮金剛石研磨液及其制備方法

        研磨液包括：金剛砂、去離子水、氧化鋁球、分散劑、水溶性膠體。制備方法包括金剛砂的表面潤(rùn)濕改性、金剛砂的球磨混合、復(fù)合分散劑的使用、水溶性膠體的添加等工藝模塊。解決了現(xiàn)有技術(shù)中金剛砂在溶劑中的分散效果差的問(wèn)題。廣泛應(yīng)用于微波陶瓷的研磨工藝中。

３７ 一種碳化硅晶片加工用研磨液及其制備方法

       制備時(shí)，取金剛石微粉于分散劑和懸浮劑中，加入水，形成兩相混合物，以離心分離，利用兩相介質(zhì)密度差分離去除粗顆粒的金剛石微粉，將粒度更加集中的金剛石微粉分散于分散劑和懸浮劑中即可得到碳化硅晶片加工用研磨液。研磨液中，金剛石微粉粒度更加集中，粗大顆粒數(shù)目遠(yuǎn)小于傳統(tǒng)方法制得的金剛石研磨液，從而有效避免大顆粒金剛石劃傷碳化硅晶片。

３８ 一種改性金剛石粉、制備方法、用途及包含其的拋光液制備方法

       改性金剛石粉表面功能團(tuán)實(shí)現(xiàn)均一化，同時(shí)利用空間位阻作用使金剛石粉在拋光液中均勻完全分散，提高懸浮性，減少團(tuán)聚。該拋光液具有安全、環(huán)保、高效、高懸浮性、高分散性的優(yōu)點(diǎn)，該拋光液可長(zhǎng)時(shí)間保持高分散狀態(tài)，幾乎無(wú)二次團(tuán)聚，極大的提升了拋光后藍(lán)寶石表面質(zhì)量。

３９ 一種球形磨料、制備方法、用途及包含其的藍(lán)寶石研磨液制備方法

       球形磨料由金剛石微粉、氧化鋁粉和氧化硅粉混合燒結(jié)而成，將金剛石微粉固結(jié)在球形磨料中，增加金剛石切削銳角與藍(lán)寶石晶片接觸面積。包括上述球形磨料、金剛石磨料、懸浮劑、潤(rùn)滑劑、ｐＨ調(diào)節(jié)劑、潤(rùn)濕劑、分散劑、防銹劑和水。能在保證晶片表面質(zhì)量的前提下，提高研磨效率，降低加工成本。采用藍(lán)寶石研磨液研磨得到的藍(lán)寶石襯底表面粗糙度低、平整度好、無(wú)明顯劃痕。藍(lán)寶石研磨液具有非常良好的應(yīng)用前景和大規(guī)模工業(yè)化推廣潛力。

４０ 一種綠色可見(jiàn)光催化輔助金剛石化學(xué)機(jī)械拋光液制備方法

       使用由氧化劑、磨料、可見(jiàn)光光催化劑、螯合劑和去離子水組成的拋光液在可見(jiàn)光照射下對(duì)金剛石化學(xué)機(jī)械拋光，所述拋光液氧化劑的濃度為１５ｗｔ％～２５ｗｔ％，磨料濃度為４０～８０ｇ／ｌ，可見(jiàn)光光催化劑的濃度為０．０２６６７～０．２６６７ｇ／ｌ，螯合劑濃度為０．５～２ｍＭ，去離子水的重量百分比為６７％～８１％。拋光后，表面粗糙度為０．１１１ｎｍ，材料去除率為４１６ｎｍ／ｈ。實(shí)現(xiàn)了綠色、高效、高質(zhì)量化學(xué)機(jī)械拋光金剛石。

４１ 一種用于光纖接頭端面的拋光液組合物配方制備方法

       具體含有納米金剛石＠沸石咪唑金屬框架材料（ＺＩＦ?８）復(fù)合磨粒、纖芯下陷抑制劑、分散劑、表面活性劑和去離子水；采用提供的光纖接頭拋光液組合物對(duì)光纖接頭端面進(jìn)行拋光，可有效降低光纖接頭端面的表面粗糙度，并具有低的纖芯下陷，提高了光纖接頭加工的成品良率。

４２ 一種拋光磨料的生產(chǎn)制備工藝

        該拋光磨料的生產(chǎn)制備工藝，奶精富含植物油，提高打磨上光，遇水乳化，易分散溶解，覆蓋在拋光磨料的表面與金剛石微粉顆粒形成一種類似拋光膏的作用，聚氨酯絨毛粉替代傳統(tǒng)羊毛，使被拋光物體的表面更細(xì)膩，光度更均勻，避免被拋光的物體表面留下打磨的螺旋紋，同時(shí)避免了傳統(tǒng)拋光磨料在制備時(shí)需要對(duì)羊毛進(jìn)行繁瑣的處理過(guò)程，提高了生產(chǎn)效率。

４３ 一種易解理氧化鎵晶片化學(xué)機(jī)械拋光工藝

        拋光液及其制備方法，成分包括磨料、分散劑、氧化劑、表面活性劑、消泡劑、ｐＨ調(diào)節(jié)劑。磨料為二氧化硅、氧化鋁、氧化鈰、金剛石中的一種或幾種。分散劑為疏水改性丙烯酸聚合物。氧化劑為過(guò)氧化氫。表面活性劑為十六烷基三甲基溴化銨、十二烷基苯磺酸鈉、氨基酸型表面活性劑、脂肪醇聚氧乙烯醚５中的一種或幾種。消泡劑為磷酸三丁酯。ｐＨ調(diào)節(jié)劑為無(wú)機(jī)堿和有機(jī)堿或是無(wú)機(jī)酸和有機(jī)酸的復(fù)配物。

４４ 一種碳化硅晶片粗磨用金剛石研磨液及其制備方法

       由水和以下重量份數(shù)的原料制成：金剛石微粉０．５～２份，表面活性劑０．１～０．５份，增稠劑０．２～０．８份，潤(rùn)滑劑０．５～７份，分散劑０．０５～１份，用于防銹和調(diào)整ｐＨ的活性劑１．５～５份，殺菌劑０．０１～０．２份，水、金剛石微粉、表面活性劑、增稠劑、潤(rùn)滑劑、分散劑、用于防銹和調(diào)整ｐＨ的活性劑、殺菌劑的總重量份數(shù)為１００份。碳化硅晶片粗磨用金剛石研磨液充分考慮了研磨液的清洗性能、防銹性能。

４５ 一種微粉懸浮拋光油及其制備方法

        一種微粉懸浮拋光油由基礎(chǔ)油、懸浮劑、潤(rùn)濕劑、拋光微粉、表面活性劑、光亮劑和絡(luò)合劑組成，以基礎(chǔ)油、懸浮劑、潤(rùn)濕劑、拋光微粉等作為該微粉懸浮拋光油為基礎(chǔ)，并在制備的過(guò)程中，向其中添加了絡(luò)合劑，絡(luò)合劑到該微粉懸浮拋光油之后，可以大大提高該拋光油的穩(wěn)定性，以此來(lái)避免顆粒間極易發(fā)生團(tuán)聚的情況出現(xiàn)，可長(zhǎng)時(shí)間懸浮金剛石、二氧化硅、氧化鋁等微粉，大大提高該微粉懸浮拋光油的使用效果，進(jìn)一步確保了拋光過(guò)程中的拋光質(zhì)量。

４６ 一種硫化鋅用拋光液及其制備方法

        采用金剛石液可以使拋光材料及拋光過(guò)程中生成的過(guò)渡層容易被機(jī)械磨削，保證一定的表面去除率，同時(shí)去除均勻。丙三醇可以保證拋光液的分散及穩(wěn)定性，減少加工表面缺陷。檸檬酸在拋光過(guò)程中既能起到溶解作用又能在表面形成過(guò)渡層，防止過(guò)度腐各組分在特定的配比條件下協(xié)同作用，可以使得到的硫化鋅用拋光液拋光處理后的硫化鋅晶體的表面粗糙度較低。

４７ 一種二氧化碲用拋光液及其制備方法

       提供的二氧化碲用拋光液采用金剛石微粉作為磨料，礦物油為溶劑，檸檬酸為ｐＨ值調(diào)節(jié)劑，各組分在特定的配比下協(xié)同作用，最終得到的二氧化碲用拋光液拋光處理后的二氧化碲晶體的表面粗糙度較低，無(wú)劃傷、凹坑和麻點(diǎn)等缺陷。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明，制備的二氧化碲用拋光液拋光處理后的二氧化碲晶體的表面粗糙度明顯更低，不超過(guò)０．６ｎｍ，無(wú)劃傷、凹坑和麻點(diǎn)等缺陷。

４８ 一種用于非金屬材料精密拋光的研磨膏及其制備方法

       包括一定比例的金剛石微粉、硅石粉、甘油和豬油或者一定比例的金剛石微粉、硅石粉、甘油和鉆石油，研磨膏能針對(duì)氧化鋁、氧化鋯、碳化硅陶瓷和石英等材料進(jìn)行精密拋光研磨，僅需拋光３０分鐘即可達(dá)到較好的效果，表面粗糙度可從原來(lái)的Ｒａ０．４達(dá)到Ｒａ０．１，提高拋光精度和效率，提高產(chǎn)品成品率，該研磨膏成本低廉，制備便捷，易于推廣。

４９ 一種可見(jiàn)光輔助金剛石化學(xué)機(jī)械拋光方法

       拋光液由磨料、氧化劑、可見(jiàn)光光催化劑、去離子水構(gòu)成。在可見(jiàn)光光源照射下，使用拋光液對(duì)金剛石進(jìn)行化學(xué)機(jī)械拋光，可見(jiàn)光光源置于拋光盤正上方１０?２０ｃｍ處，拋光盤（墊）為玻璃盤或者聚氨酯拋光墊，拋光盤（墊）轉(zhuǎn)速５０?７０ｒ／ｍｉｎ，拋光壓力為１?２ＭＰａ，拋光液流量為１０?２０ｍｌ／ｍｉｎ。拋光后金剛石表面粗糙度可達(dá)０．２５０?０．３５４ｎｍ。相較于傳統(tǒng)拋光方法，晶體表面粗糙度降低，拋光效率提升。相較于紫外光輔助化學(xué)機(jī)械方法，使用設(shè)備結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，實(shí)用性強(qiáng)。

５０ 一種研磨組合物及其應(yīng)用

        應(yīng)用包括對(duì)鉬蒸發(fā)料進(jìn)行研磨處理，包括如下過(guò)程：將鉬蒸發(fā)料采用所述復(fù)合研磨組合物進(jìn)行第一研磨和第二研磨。通過(guò)對(duì)研磨中研磨介質(zhì)即研磨組合物的設(shè)計(jì)，實(shí)現(xiàn)了鉬蒸發(fā)料表面污物和缺陷的高效去除，同時(shí)顯著降低了鉬蒸發(fā)料的損失率，較現(xiàn)有技術(shù)中的鉬蒸發(fā)料損失率（４０?２０％）顯著降低，鉬蒸發(fā)料處理后的損失率為０．０５?０．１％。

５１ 一種核殼結(jié)構(gòu)的二氧化鈰／納米金剛石復(fù)合磨料、其制備方法及用于藍(lán)寶石超精密拋光的拋光液

        核殼結(jié)構(gòu)的二氧化鈰／納米金剛石復(fù)合磨料為生長(zhǎng)有納米金剛石顆粒的二氧化鈰納米棒，該新型復(fù)合磨料既能避免金剛石劃傷藍(lán)寶石，顯著降低藍(lán)寶石表面的粗糙度，又能有效提高拋光效率。本發(fā)明還公開(kāi)了一種用于藍(lán)寶石超精密拋光的拋光液，該拋光液中的二氧化鈰／納米金剛石磨料分散均
勻、不易團(tuán)聚，更容易形成穩(wěn)定的濁狀液體系，長(zhǎng)時(shí)間保持分散均勻且不分層。

５２ 一種研磨液組合物及其生產(chǎn)工藝

        涉及研磨液制備技術(shù)領(lǐng)域，以金剛石磨粒、銅粉、碳化硅粒、二氧化缽粉末和白剛玉粉作為磨料，并嚴(yán)格控制粒徑，配合極壓潤(rùn)滑劑、甘油、硬脂酸以及乳化劑的作用，潤(rùn)滑性能遠(yuǎn)高于同類產(chǎn)品，提高表面加工精度。

５３ 一種噴霧型金剛石研磨液制備方法

        將該研磨液用于噴霧供液系統(tǒng)時(shí)，可有效減少霧化飛散液滴的產(chǎn)生，并可加速液滴沉降，在提升研磨液利用率的同時(shí)可以顯著避免霧化吸入，從而降低對(duì)操作人員的身心傷害。

５４ 一種石英玻璃研磨液及其制備方法

        提供的石英玻璃研磨液中同時(shí)加入兩種不同材質(zhì)的研磨顆粒，二者硬度不同，硬度大的金剛石顆粒有利于石英玻璃材料的有效去除，硬度略低的氧化鋁顆?？蓪?duì)金剛石加工造成的裂紋進(jìn)行修復(fù)，可同時(shí)滿足石英玻璃研磨去除率高、粗糙度小的理想研磨效果。

５５ 一種碳化硅單晶拋光液及其使用方法

       碳化硅單晶拋光液包括以下原料：過(guò)氧化氫、磨料和助劑；其中，所述磨料由二氧化硅、氧化鋁和金剛石微粉構(gòu)成；所述二氧化硅的粒徑為１０ｎｍ～３０ｎｍ；所述氧化鋁的粒徑為５０ｎｍ～１００ｎｍ；所述金剛石微粉的粒徑為小于０．２５μｍ。該拋光液利用不同粒度的拋光磨料，實(shí)現(xiàn)了對(duì)碳化硅單晶表面的有效拋光，實(shí)現(xiàn)了碳化硅單晶表面粗糙度Ｒａ均達(dá)到亞納米級(jí)。

５６ 一種環(huán)保不銹鋼拋光液制備方法

        拋光料為納米四氧化三鐵包覆的多巴胺改性金剛石粉，所述多巴胺改性金剛石粉。與現(xiàn)有技術(shù)相對(duì)比，拋光顆粒硬度適中、磁控剪切力大，載流體為乙醇／水體系環(huán)保，拋光顆?？苫厥眨幚砗蟛讳P鋼表面形成鈍化膜大大延緩腐蝕等優(yōu)點(diǎn)。

５７ 一種拋光用復(fù)合磨粒制備方法

       包括由內(nèi)至外依次組成的內(nèi)核體、雜化膜層、以及含有硬質(zhì)磨粒的硬質(zhì)磨粒層。以及該復(fù)合磨粒及研磨液的制備方法。拋光用復(fù)合磨粒、研磨液及其制備方法，使用該復(fù)合磨粒的研磨液研磨時(shí)，可以有效提高產(chǎn)品的研磨效率，且同時(shí)可以提高產(chǎn)品的表面質(zhì)量，減小了產(chǎn)品劃傷的概率。

５８ 一種用于拋光硬質(zhì)基材的多峰金剛石磨料包或漿料

        多峰金剛石磨料包或漿料通常包含多種金剛石磨料。多種金剛石磨料中的每一種金剛石磨料都具有一種粒度。其中，多峰金剛石磨料包或漿料包含第一金剛石磨料和第二金剛石磨料。第一金剛石磨料具有第一粒度，且第二金剛石磨料具有第二粒度。其中，第一金剛石磨料的第一粒度小于第二金剛石磨料的第二粒度。

５９ 一種含納米混合拋光粉的磁流變拋光液及其制備方法

。制備方法包括將羰基鐵粉、納米混合拋光粉、基載液混合，然后加入表面活性劑和ｐＨ調(diào)節(jié)劑即得。磁流變拋光液可實(shí)現(xiàn)磁流變拋光高去除效率和高表面質(zhì)量的兼容，流變性能好，穩(wěn)定性強(qiáng)，能夠?qū)崿F(xiàn)光學(xué)元件的磁流變高效超光滑加工。

６０ 一種用于晶片襯底片的金剛石研磨液制備方法

        其屬于精細(xì)化工技術(shù)領(lǐng)域。該研磨液中醇醚有機(jī)溶劑的加入，使該研磨液的表面張力降低，增加了潤(rùn)濕滲透能力。多功能金屬離子捕捉劑的分子結(jié)構(gòu)中含有酰胺官能團(tuán)，酰胺鍵與一個(gè)氧原子相連。金屬離子捕捉劑與有機(jī)溶劑的協(xié)同作用可顯著降低研磨屑對(duì)晶片表面以及邊緣的吸附力，易被沖洗，避免將研磨屑帶入去蠟槽。并且采用高性能的分散劑對(duì)金剛石微粉進(jìn)行均勻分散，是研磨液具有良好的分散穩(wěn)定性。

６１ 一種ＳｉＣ襯底加工用納米金剛石拋光液及其制備方法

       金剛石微粉中，耐磨磨粒／圓形磨粒顆粒數(shù)比值為１?１５：１，其中，圓度Ｆｃ＞０．９５０為圓形磨粒；０．９００≤Ｆｃ≤０．９５０為耐磨磨粒。所述拋光液通過(guò)控制金剛石微粉的形貌構(gòu)成，在耐磨磨粒提高拋光效率的同時(shí)，借助圓形磨粒修復(fù)表面損傷層和粗糙度，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)拋光劃傷的控制。

６２ 一種用于陶瓷軸承球的拋光液及其制備方法

        拋光液主要由以下質(zhì)量份數(shù)的組分組成：金剛石０．１～５份、潤(rùn)滑劑０．１～２０份、懸浮劑０．１～１０份、保水劑１～２份、分散劑０．１～１５份和水５０～８０份。拋光液具有高效率、易清洗的特點(diǎn)，拋光后陶瓷軸承球的表面質(zhì)量?jī)?yōu)異。

６３ 一種碳化硅晶片粗拋用金剛石拋光液及制備方法

       磨料兩步處理法可有效提高多晶金剛石粉體利用率，同時(shí)有效的減少拋光液中超尺寸顆粒以及硬團(tuán)聚體存在導(dǎo)致的劃傷問(wèn)題；采用改性脲溶液作為有機(jī)懸浮劑，拋光液長(zhǎng)期放置無(wú)明顯分層現(xiàn)象，與無(wú)機(jī)懸浮劑，如疏水改性氣相法白炭黑，有機(jī)膨潤(rùn)土相比，拋光廢屑不易粘附在拋光盤上，易清洗。

６４ 一種煤巖專用拋光劑及其制備方法

       加磁改性金剛石微粉經(jīng)過(guò)下列步驟制得：將金剛石微粉和鐵微粉在真空環(huán)境下混合，通入氧氣并高溫加熱，在金剛石微粉表面沉積生長(zhǎng)Ｆｅ＜ｓｕｂ＞３＜／ｓｕｂ＞Ｏ＜ｓｕｂ＞４＜／ｓｕｂ＞包裹層，冷卻過(guò)篩得到所需的加磁改性金剛石微粉。配方設(shè)計(jì)科學(xué)合理，通過(guò)加磁改性金剛石微粉替代傳統(tǒng)的金剛石微粉，金剛石微粉具備磁性，使所得拋光劑中金剛石微粉能長(zhǎng)期穩(wěn)定懸浮，保障拋光質(zhì)量和拋光效率，滿足煤巖分析的需求。

６５ 一種金剛石研磨液制備方法

       磨料為多晶金剛石微粉、類多晶金剛石微粉、單晶金剛石微粉的混合物；磨料預(yù)先采用烷基酚聚氧乙烯醚進(jìn)行表面改性處理；懸浮劑為Ｎ?甲基吡咯烷酮、改性聚脲、甲基吡咯烷、蓖麻油衍生物中的至少一種。該金剛石研磨液研磨效率高，磨料分散均勻，懸浮穩(wěn)定性好，長(zhǎng)時(shí)間放置不會(huì)發(fā)生沉降分層現(xiàn)象。

６６ 一種碳化硅拋光液及其應(yīng)用

       使用非水溶劑，利用非水溶劑代替水，避免了拋光液中各組分的反應(yīng)活化能、配位性能和氧化還原電位等特性都受制于水性溶液的束縛的問(wèn)題，提供的碳化硅拋光液具有良好的金剛石懸浮性，能夠提高拋光效率，且無(wú)揮發(fā)性問(wèn)題，易于長(zhǎng)期儲(chǔ)存，是理想的半導(dǎo)體化合物晶圓制造亞納米級(jí)光潔度的拋光液。

６７ 一種用于加工陶瓷插芯的研磨液制備方法

       其特征在于包括如下組分及其重量份數(shù)：金剛石顆粒１～９；煤油４００?６００；十六烷酸２００～３００；油酸２００～３００；亞油酸４０～１００；白油６０～８０。本發(fā)明還公開(kāi)了該研磨液的制備方法。采用的配方，耐高溫、研磨效率大大提高，研磨后孔徑一致性佳。

６８ 一種超快速低損碳化硅襯底拋光液及其制備方法

       包括添加劑和拋光基液，拋光基液包括納米金剛石微粉、強(qiáng)氧化劑，穩(wěn)定劑等；添加劑按包括一定重量比的石墨烯、碳化鎢、硅膠和二氧化鈦；添加劑對(duì)拋光基液具有平衡拋光時(shí)摩擦力作用，使碳化硅襯底在高速拋光的過(guò)程中，不會(huì)因?yàn)閽伖馑俣燃涌於霈F(xiàn)劃痕或粗糙度加劇的問(wèn)題，實(shí)現(xiàn)高速拋光的同時(shí)，降低表面粗糙度，減少劃痕的目的，且整個(gè)精加工過(guò)程，加工精度高、自動(dòng)化程度高。