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１    用玻璃拋光廢渣顆粒再生技術(shù)制備蓋板玻璃用稀土拋光粉的方法，采用了部分溶解與顆粒二次凝聚技術(shù)，以難溶氟化物為核，通過(guò)包覆使細(xì)小顆粒緊密團(tuán)聚在一起，表面形成的稀土化合物物通過(guò)煅燒與中心的氟化物反應(yīng)，既恢復(fù)了團(tuán)聚顆粒的棱角又增加了再生稀土拋光粉的團(tuán)聚強(qiáng)度；可以將拋光廢渣中的有效元素高效回收，稀土元素回收率可達(dá)９０％以上，所產(chǎn)出的再生稀土拋光粉能夠滿足蓋板玻璃拋光對(duì)拋光速度及表面質(zhì)量的嚴(yán)苛要求。

２    化學(xué)機(jī)械拋光用ＣｅＯ２研磨顆粒的制備方法，該方法制備的ＣｅＯ２納米顆粒配置成ＣｅＯ２基化學(xué)機(jī)械拋光液適用于氧化硅制品的高效拋光中，該制備方法具有選用原料廉價(jià)、制備工藝簡(jiǎn)單、生產(chǎn)周期短的特點(diǎn)，同時(shí)所制備的ＣｅＯ２顆粒具有拋光效率高的特點(diǎn)。

３    大口徑光學(xué)玻璃拋光液的制備方法，核心為通過(guò)直接沉淀制備絲狀碳酸稀土團(tuán)聚體，獲得了廉價(jià)的納米級(jí)前驅(qū)體；通過(guò)過(guò)氧化氫的氧化作用使三價(jià)鈰轉(zhuǎn)化為四價(jià)鈰，獲得拋光的化學(xué)活性，并通過(guò)氟的引入進(jìn)一步穩(wěn)定其化學(xué)活性；利用轉(zhuǎn)化后顆粒形貌遺傳前驅(qū)體的特點(diǎn)，使顆粒依舊保持足夠的物理拋光作用，從而實(shí)現(xiàn)對(duì)大口徑光學(xué)玻璃的快速精密拋光；有益效果：生產(chǎn)工藝滿足大口徑光學(xué)玻璃拋光需求，成本上符合市場(chǎng)預(yù)期，生產(chǎn)上環(huán)保高效。

４    以鈰富集物為原料制備光學(xué)玻璃用拋光液的方法，制備的拋光粉具備良好化學(xué)穩(wěn)定性，在水中分散性與懸浮性極佳，制備的拋光液半沉淀期Ｔ５０低至３０?２４０ｍｉｎ，沉積指數(shù)低至５?８％。

５    納米拋光粉的制備方法，通過(guò)采用多次緩慢沉積和水熱法制備獲得的鑭鈰氧化物拋光粉的尺寸為納米級(jí)別，尺度均一，流動(dòng)性好，通過(guò)氨化石墨烯引入小顆粒的沉淀晶體，獲得的氧化物顆粒高度分散，通過(guò)強(qiáng)堿水熱法制備鑭鈰氧化物，使鑭進(jìn)入氧化鈰晶格，能夠有效的屏蔽因?yàn)閽伖夥壑谐煞植灰欢鴮?dǎo)致的拋光效果差的技術(shù)問(wèn)題，并提高拋光粉的硬度。

６    微晶玻璃拋光用多晶氧化鈰拋光液及其制備方法和應(yīng)用，用以解決現(xiàn)有拋光液對(duì)特殊的玻璃陶瓷?微晶玻璃進(jìn)行拋光時(shí)存在的加工難度大，拋光時(shí)間長(zhǎng)，拋光效率低且拋光穩(wěn)定性差的技術(shù)問(wèn)題。保證拋光效率的穩(wěn)定和延長(zhǎng)拋光液的壽命；且多晶氧化鈰拋光液的制備方法簡(jiǎn)單，操作方便，易于現(xiàn)代工業(yè)生產(chǎn)。

７    焙燒法制備氟化鑭鈰拋光粉的方法，屬于可控晶型、可控物相粉體制備領(lǐng)域。采用氟化稀土鑭鈰碳酸鹽原料焙燒法制備氟化鑭鈰拋光粉，通過(guò)改變焙燒溫度、升溫速率、保溫時(shí)間等因素制備可控晶型、可控物相氟化鑭鈰拋光粉的方法，其制備方法可操作性強(qiáng)，焙燒工藝簡(jiǎn)單，焙燒溫度、保溫時(shí)間、升溫速率控制精確，可獲得從原料氟化稀土鑭鈰碳酸鹽到可控晶型、可控物相的氟化鑭鈰拋光粉的不同工藝方法產(chǎn)品。

８    納米鈰基拋光漿液的制備方法。合成納米氫氧化鈰磨粒一次顆粒尺寸為３～１０ｎｍ，具有高表面化學(xué)活性，能與過(guò)氧化氫發(fā)生以下表面化學(xué)反應(yīng)在表面生成氧化性較強(qiáng)的過(guò)氧化氫氧化鈰（Ｃｅ（ＯＨ）３ＯＯＨ）：Ｃｅ（ＯＨ）４＋Ｈ２Ｏ２＝Ｃｅ（ＯＨ）３ＯＯＨ＋Ｈ２Ｏ，從而強(qiáng)化了其作為拋光磨粒的化學(xué)去除作用。該納米鈰基拋光漿液的制備方法流程短，得到的拋光漿液懸浮穩(wěn)定性好，無(wú)需添加分散劑。

９    焙燒法制備鑭鈰固溶體拋光粉的方法，屬于可控晶型、采用碳酸鑭鈰原料焙燒法制備鑭鈰固溶體，通過(guò)改變焙燒溫度、升溫速率、保溫時(shí)間等因素制備可控晶型、可控粒徑鑭鈰固溶體拋光粉的方法，其制備方法可操作性強(qiáng)，焙燒工藝簡(jiǎn)單，焙燒溫度、保溫時(shí)間、升溫速率控制精確，可獲得從原料碳酸鑭鈰到可控晶型、可控粒徑的鑭鈰固溶體七氧化四鈰Ｃｅ４Ｏ７拋光粉的不同工藝方法產(chǎn)品。

１０ 近球形Ｌａ３＋摻雜Ｃｅ１?ｘＬａｘＯ２納米拋光粉及其制備方法，將Ｃｅ（ＮＯ３）３·６Ｈ２Ｏ、鑭鹽和熔鹽混合后在坩堝中研磨均勻得混合物；將混合物倒入無(wú)水乙醇中磁力攪拌均勻，然后倒入坩堝中在干燥箱中干燥得混合鹽；將干燥后的混合鹽連同坩堝一起放置在馬弗爐中焙燒后自然冷卻；用去離子水洗滌，除去雜質(zhì)離子得到白色沉淀；將白色沉淀產(chǎn)物倒入離心管中，在離心機(jī)中用去離子水進(jìn)行離心洗滌，置入干燥箱干燥后研磨，得到近球形Ｌａ３＋摻雜Ｃｅ１?ｘＬａｘＯ２納米拋光粉。具有選用原料廉價(jià)、制備工藝簡(jiǎn)單、生產(chǎn)周期短的特點(diǎn)。

１１ 提升良率降低用量的玻璃拋光液，制備的玻璃拋光液，能有效的降低生產(chǎn)過(guò)程中的稀土金屬氧化物的用量，提升玻璃拋光加工的良率，對(duì)后續(xù)清洗工藝降低了難度，使拋光后的玻璃制品，易清洗，將清洗的制程時(shí)間縮短一半，制備方法較為簡(jiǎn)單直觀，物料損耗少，經(jīng)濟(jì)效益好，該玻璃拋光液可廣泛應(yīng)用于儀器玻璃、電子５Ｇ玻璃、汽車中控玻璃、手表和鏡頭等產(chǎn)品中。

１２ 納米二氧化鈰拋光液（粉）的制備方法。采用分散劑聚乙烯吡咯烷酮和醇類溶劑，與濕法球磨相結(jié)合，球磨后分離液體得到納米二氧化鈰懸濁液；再用去離子水稀釋得到納米二氧化鈰拋光液，拋光液在溫度為８０?１２０℃下噴霧干燥，得到適合運(yùn)輸?shù)募{米二氧化鈰拋光粉。解決了制備納米二氧化鈰拋光液時(shí)二氧化鈰顆粒在溶劑中易沉降和團(tuán)聚的問(wèn)題，所制備的納米二氧化鈰拋光液（粉）具有良好的分散性和懸浮性，粒徑分布窄，尺寸小，拋光性能顯著。

１３ 用于熔石英磁流變拋光的高效率拋光漿料及制備方法，可以顯著提高對(duì)熔石英的去除效率，與此同時(shí)還能夠保持熔石英的優(yōu)異表面質(zhì)量。

１４ 制備稀土拋光粉的系統(tǒng)及方法，創(chuàng)造性的將氫氟酸、磷酸和硫酸按比例混合制備改性劑，并用改性劑對(duì)碳酸稀土干物料在常溫下噴灑混合反應(yīng)進(jìn)行改性，不但使得碳酸稀土前軀體的晶粒尺寸均勻，氟化反應(yīng)均勻完全，不產(chǎn)生影響拋光精度及速率的游離態(tài)氟離子及氟化物，結(jié)晶度高；而且，不產(chǎn)生含氟廢水，改性劑可以回收循環(huán)利用，安全環(huán)保，且降低原材料成本。

１５ 表面改性的氧化鈰顆粒作為拋光液磨粒的應(yīng)用。表面改性的氧化鈰顆粒由氧化鈰經(jīng)如式Ｉ所示的改性劑改性得到。拋光液在氧化硅膜和氮化硅膜之間的拋光選擇比較高，溝槽部的碟陷Ｄｉｓｈｉｎｇ量較低，粗糙度均方根值ＲＭＳ小。

１６ 氧化鈰顆粒在拋光工藝中的應(yīng)用。氧化鈰顆粒在拋光工藝中作為拋光漿料的拋光粒子；氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料的第一顆粒尺寸為２００?５００μｍ；氧化鈰顆粒的拉曼光譜包含在４５８ｃｍ?１處的峰和５８３ｃｍ?１處的峰，且其中在４５８ｃｍ?１處的峰的強(qiáng)度與在５８３ｃｍ?１處的峰的強(qiáng)度的比率為峰比率，氧化鈰顆粒的峰比率為７０?９０。通過(guò)控制氧化鈰顆粒的顆粒峰比率、氧化鈰顆粒的前驅(qū)體材料的顆粒尺寸在一定范圍內(nèi)，使得應(yīng)用于ＳＴＩ的ＣＭＰ制程時(shí)，具有優(yōu)良的移除速率和選擇性，且具有不引起微劃痕或使微劃痕數(shù)量最小化的能力。

１７ 高性能３Ｄ玻璃用稀土拋光粉干法制備工藝，主要對(duì)現(xiàn)行工藝中濕法加氟工藝進(jìn)行創(chuàng)新，通過(guò)對(duì)稀土拋光材料的原料稀土碳酸鹽先利用余熱進(jìn)行烘干，然后將烘干后的稀土碳酸鹽經(jīng)連續(xù)氟化裝置在動(dòng)態(tài)下通入氟化氫氣體進(jìn)行氣固反應(yīng)加氟等工藝設(shè)備組成，經(jīng)生產(chǎn)實(shí)踐驗(yàn)證而成。制備的稀土含氟拋光粉工藝合理流暢，產(chǎn)出的拋光粉成品粒徑分布窄，成品出成率高，無(wú)三廢產(chǎn)生。本發(fā)明思路獨(dú)特，使用安全，操作方便，經(jīng)濟(jì)效益和環(huán)境效益顯著。在以下范圍起到效果：大規(guī)模含氟稀土拋光粉制備。

１８ 鈰鋯摻雜拋光液及其制備方法和應(yīng)用，以碳酸稀土和堿式碳酸鋯作為前驅(qū)體物，通過(guò)預(yù)先的高能球磨，在大大減小原料粒度的同時(shí)通過(guò)能量輸入減低原料中晶界能，噴霧干燥保證了水分除去的同時(shí)粉體顆粒之間的分散均勻性，此后結(jié)合特定的二次煅燒方式，實(shí)現(xiàn)了阻擋原晶在煅燒過(guò)程中過(guò)多長(zhǎng)大，使得晶粒在煅燒過(guò)程中生長(zhǎng)的更完整，晶格更完善，棱角更分明，更易獲得晶粒尺寸小、粒徑分布均勻的物料，制成的拋光液應(yīng)用于拋光藍(lán)玻璃時(shí)具有高切削量的同時(shí)兼具高表面質(zhì)量。

１９ 鈰基稀土拋光粉及其制備方法和應(yīng)用，制成的鈰基稀土拋光粉，其中細(xì)小硬度較大的晶粒，而且提高了晶粒的畸變能，改善了顆粒物理化學(xué)性質(zhì)，進(jìn)而使得本發(fā)明的拋光粉能夠在拋光玻璃尤其是冕玻璃、火石玻璃和重火石玻璃中獲得極佳的拋光質(zhì)量、高拋蝕量，且制備用時(shí)短，操作方便，環(huán)保性好。

２０ 微波條件下氟化二氧化鈰拋光粉的制備方法，制備的二氧化鈰粉體顆粒結(jié)晶度高，形貌規(guī)整呈（類）球形，粒度分布均勻，分散性好，進(jìn)一步提高了氟化二氧化鈰粉體的拋光效率和拋光精度。
２１從廢稀土拋光粉中分離提取稀土與再生稀土拋光粉的方法，廢稀土拋光粉中稀土的總浸出率達(dá)到９５％以上，稀土的總回收率達(dá)到９３％以上，實(shí)現(xiàn)了廢稀土拋光粉中稀土的高效分離提取及再生利用。

２２ 光學(xué)玻璃及液晶顯示玻璃用鈰基拋光粉前驅(qū)體的制備方法，在拋光粉前驅(qū)體制備時(shí)加入磷酸鹽、氟鹽、碳酸鹽組成的復(fù)合沉淀劑，制得的拋光粉前驅(qū)體的顆粒形貌為均勻的團(tuán)聚體，粒度大小適中，粒度分布窄，大顆粒數(shù)量少。拋光粉切削率高，使用壽命長(zhǎng)，研磨后玻璃的基本無(wú)劃傷，表面光潔度好。

２３ 稀土拋光粉的制備方法，包括氧化鈰和氧化釔，氧化鈰的稀土氧化物總量占比ＣｅＯ２／ＴＲＥＯ＝４５ｗ％～８５ｗ％，氧化釔的稀土氧化物總量占比Ｙ２Ｏ３／ＴＲＥＯ＝１ｗ％～１０ｗ％，摩爾比ＲＥＯ：Ｙ２Ｏ３＝１：０．０１５～０．１５。通過(guò)精確計(jì)算Ｙ２Ｏ３的加入量使ＣｅＯ２晶格常數(shù)變小，形成氧空位，增強(qiáng)了拋光粉的耐磨性、研削力、反應(yīng)活性。

２４ 稀土拋光粉廢料的回收方法，包括以下步驟：將稀土拋光粉廢料采用強(qiáng)酸多級(jí)逆流浸出，制得含稀土離子的浸出液；將含稀土離子的浸出液采用第一萃取劑進(jìn)行第一次萃取，制得萃余液；將萃余液采用第二萃取劑進(jìn)行第二次萃取，制得萃取液；將萃取液經(jīng)酸洗滌、反萃后得到高純氯化稀土溶液，高純氯化稀土溶液與表面活性劑、碳酸氫銨混合，制得碳酸稀土；將碳酸稀土與氟化物混合再焙燒，得到高性能稀土拋光粉。該方法回收率高，制得的拋光粉純度高，拋光性能優(yōu)異，且能耗低、環(huán)境友好。

２５ 化學(xué)機(jī)械拋光組合物，包含：（ａ）氧化鈰研磨劑顆粒；（ｂ）陽(yáng)離子型聚合物；（ｃ）非離子型聚合物，包含聚乙二醇十八烷基醚、聚乙二醇月桂基醚、聚乙二醇油烯基醚、聚（乙烯）?共?聚（乙二醇）、辛基苯氧基聚（乙烯氧基）乙醇、或其組合；（ｄ）飽和一元酸；及（ｅ）水性載劑。涉及拋光基板的方法。

２６ 化學(xué)機(jī)械拋光液，包括氧化鈰、硫酸鈰和ｐＨ調(diào)節(jié)劑?；瘜W(xué)機(jī)械拋光液使用氧化鈰作為拋光顆粒并配合使用硫酸鈰作為氧化劑，不僅可以提高無(wú)定形碳材料的拋光速率，還能夠提高拋光液的穩(wěn)定性。

２７ 用于玻璃面板拋光的稀土拋光液及利用其拋光的方法，屬于玻璃表面拋光處理領(lǐng)域。為了解決現(xiàn)有的消泡性能差的問(wèn)題，用于玻璃面板拋光的稀土拋光液對(duì)玻璃面板進(jìn)行拋光處理。能夠?qū)崿F(xiàn)高化學(xué)拋光活性和高分散性，且實(shí)現(xiàn)有效消泡能力和使用壽命長(zhǎng)的效果。

２８ 氟化稀土拋光粉及氟化稀土拋光液的制備方法，制備的拋光粉應(yīng)用于表面處理后，在保證光學(xué)玻璃表面沒(méi)有劃傷等表面缺陷的前提下實(shí)現(xiàn)了高切削率，制備方法更簡(jiǎn)單，完全做到了將沉淀與氟化同步同時(shí)進(jìn)行的目的。

２９ 氟化稀土拋光粉及氟化稀土拋光液的制備方法，制備的拋光粉應(yīng)用于表面處理后，在保證光學(xué)玻璃表面沒(méi)有劃傷等表面缺陷的前提下實(shí)現(xiàn)高切削率，制備方法更簡(jiǎn)單，成本更低，生產(chǎn)周期更短，且無(wú)需每一個(gè)生產(chǎn)廠家均設(shè)置大型的廢水處理系統(tǒng)。

３０ 鋯摻雜氟氧化鑭鈰拋光粉的制備方法，在制備鋯摻雜氟氧化鑭鈰拋光粉時(shí)，不燒結(jié)，易處理，對(duì)玻璃進(jìn)行拋光，拋蝕量高，玻璃表面質(zhì)量高，易清洗，制備工藝簡(jiǎn)單易行。

３１玻璃拋光液及其制備方法和使用其進(jìn)行拋光處理的方法。該玻璃拋光液在使用時(shí)分散劑不會(huì)積累，分散、懸浮效果好，穩(wěn)定性好，使用壽命長(zhǎng)，磨削速率穩(wěn)定，拋光效果穩(wěn)定，良率高；表面活性劑也不會(huì)發(fā)生積累，在拋光過(guò)程中不會(huì)產(chǎn)生大量泡沫，無(wú)需額外添加的消泡劑，磨削速率佳，拋光效果好。

３２高鋁含堿玻璃拋光液及其制備方法，所述高鋁含堿玻璃拋光液包括稀土拋光粉和表面活性劑，所述稀土拋光粉包括氧化鈰、以及其它任意一種或多種稀土氧化物，所述述稀土拋光粉中的總稀土含量大于等于８８％，其中，氧化鈰在總稀土中的含量大于等于５５％，所述稀土拋光粉的粒度分布滿足以下要求：Ｄ０≤１０μｍ、Ｄ１０≤４μｍ、Ｄ５０為０．８～２μｍ、Ｄ９０≥０．５μｍ。解決了現(xiàn)有拋光液用于高鋁含堿玻璃拋光導(dǎo)致二次劃傷、拋光粉殘留在玻璃表面的問(wèn)題。

３３玻璃拋光劑及其制備方法、制得的玻璃拋光劑具有顆粒尺寸可控、分布均勻優(yōu)點(diǎn)。在對(duì)工件進(jìn)行拋光時(shí)，不同粒徑分布的玻璃拋光液能夠較好地粘附于本發(fā)明中的拋光毛刷上。

３４納米氧化鈰拋光液及其制備方法，用于對(duì)玻璃進(jìn)行拋光處理，既能夠提高拋光效率以及拋光效果，還不會(huì)對(duì)玻璃以及加工機(jī)臺(tái)造成污染。

３５高精度拋光粉及其制備方法，該拋光粉的稀土重量（ＲＥＯ）≥８０％，ＣｅＯ２／ＲＥＯ≥５５％。提供的高精度拋光粉具有粒度分布均勻，懸浮性好，硬度高，研磨均勻，使用壽命長(zhǎng)。制備方法工藝流程簡(jiǎn)單，環(huán)保，工藝容易操作，易于工業(yè)化生產(chǎn)。

３６ 氧化鈰磨料在ＰＩ介電材料拋光中的用途，其中所述氧化鈰磨料混合于化學(xué)機(jī)械拋光液形成組合物使用，使用氧化鈰作為磨料，在適當(dāng)?shù)难趸嬆チ虾亢蛼伖庖海穑确秶?，表現(xiàn)出較高的ＰＩ介電材料的拋光速率。

３７ 乙酸在ＳＴＩ拋光中的用途。拋光液不僅具有較高的二氧化硅拋光速率，還具有較高的二氧化硅／氮化硅拋光速率選擇比，在拋光過(guò)程中，能夠在高效地去除二氧化硅介質(zhì)層的同時(shí)，使拋光停止在氮化硅層，從而得到滿足工業(yè)生產(chǎn)要求的拋光產(chǎn)品。

３８ 焦性沒(méi)食子酸在二氧化硅拋光中的用途，所述焦性沒(méi)食子酸與化學(xué)機(jī)械拋光液混合使用，化學(xué)機(jī)械拋光液包括氧化鈰研磨顆粒，焦性沒(méi)食子酸的濃度為２０?１０００ｐｐｍ，化學(xué)機(jī)械拋光液的ｐＨ為４．５。通過(guò)向化學(xué)機(jī)械拋光液中添加焦性沒(méi)食子酸，能夠適當(dāng)抑制二氧化硅的拋光速率，從而避免了拋光過(guò)程中在二氧化硅表面產(chǎn)生蝶形缺陷，提升了拋光產(chǎn)品的質(zhì)量。

３９ 廢棄稀土拋光粉中硅鋁雜質(zhì)的脫除方法，通過(guò)將廢棄稀土拋光粉和堿液在研磨介質(zhì)作用下混合，可利用研磨介質(zhì)的機(jī)械作用，使堿液與廢棄稀土拋光粉充分接觸，并使廢棄稀土拋光粉中包覆在稀土氧化物表面的硅鋁雜質(zhì)脫落，從而加快后續(xù)浸出反應(yīng)的進(jìn)行，縮短反應(yīng)時(shí)間，提高浸出效率，達(dá)到減少堿液用量、降低能耗的目的。

４０ 從廢稀土拋光粉中提取鋁、氧化硅和稀土的方法，包括在預(yù)處理后的廢稀土拋光粉中加強(qiáng)酸，將鋁、稀土溶解，氧化硅粉留在浸出渣中將含有氧化硅粉的浸出渣洗滌和純化，得到氧化硅粉；在浸出液中加入沉淀劑將稀土沉淀、過(guò)濾得到稀土鹽和鋁鹽溶液；將鋁鹽溶液中和后，靜置沉降２～１２小時(shí)，得到含鋁產(chǎn)品；將稀土鹽經(jīng)過(guò)氟化和灼燒，制備稀土拋光粉。將廢稀土拋光粉中的硅、鋁和稀土進(jìn)行了綜合回收，形成超細(xì)氧化硅粉、鋁鹽和稀土拋光粉三種產(chǎn)品，無(wú)固廢產(chǎn)生，有價(jià)元素全部利用。

４１ 玻璃用拋光液，采用氧化鈰與氧化鋁復(fù)配作為磨料，氧化鋁可有效提高拋光速率，氧化鈰可降低加工件表面粗糙度，提高玻璃強(qiáng)度；同時(shí)分散劑中的Ｆ、Ｏ等元素可與磨料粒子中的金屬離子絡(luò)合，提高拋光液的懸浮性；上述組分共同作用，使得拋光液懸浮分散性較好、穩(wěn)定性強(qiáng)的同時(shí)，也具較好的拋光效率，使拋光后產(chǎn)品強(qiáng)度高、粗糙度低、表觀良率較高。

４２ 稀土拋光粉及其制備方法，包括，改性碳酸稀土前驅(qū)體的合成、改性碳酸稀土前驅(qū)體洗滌、改性碳酸稀土前驅(qū)體的脫水、焙燒、粉碎等步驟。本發(fā)明制備的稀土拋光粉具有耐磨性好，拋光速率快，拋光精度容易控制；產(chǎn)品的均一性好，生產(chǎn)效率高、成本低、無(wú)污染，適用于集成電路、平面顯示、光學(xué)玻璃等電子信息產(chǎn)業(yè)精密器件的表面拋光加工。

４３ 氧化鈰拋光液及其制備方法和應(yīng)用。其中，該拋光液含有研磨劑、分散劑、消泡劑和水，其中，研磨劑為氧化鈰、氧化鑭、氟化鑭、氧氟化鑭和氧化鈦的混合物；分散劑為烯丙基聚氧乙烯醚和／或聚氧乙烯辛基苯酚醚與三乙基己基磷酸、乙烯基雙硬脂酰胺、苯乙烯磺酸鈉的混合物；消泡劑為聚氧乙烯聚氧丙烯醇胺醚和聚醚二甲基硅氧烷共聚物。將該拋光液應(yīng)用于玻璃表面進(jìn)行拋光，拋光效率高，分散能力強(qiáng)以及持久消泡效果好和能夠長(zhǎng)時(shí)間消泡。

４４ 用于拋光玻璃的稀土拋光液及其制備方法，兼具高切削量、高表面質(zhì)量且可降低有機(jī)物的使用，對(duì)環(huán)境友好。

４５ 超精密氧化鈰拋光粉的篩選方法，用于拋光表面用氧化鈰拋光液的制備，該方法篩選的溶液粒徑更小，粒度分布更均勻，用于超光滑表面拋光，不易產(chǎn)生劃痕。

４６ 鑭鈰釔稀土拋光粉以含釔的稀土鹽溶液為主要原料，以碳酸氫銨為沉淀劑進(jìn)行合成，再經(jīng)洗滌、過(guò)濾、煅燒、破碎分級(jí)等工序獲得。釔的添加使拋光粉的形貌從根本上發(fā)生變化，由原來(lái)的不規(guī)則的塊狀變成規(guī)則的片狀，漿料懸浮性更好，有效成分更多，從而增強(qiáng)了漿料的切削力。

４７ 鑭鈰鐠釹釔稀土拋光粉，稀土拋光粉顆粒均勻、粒度分布窄，拋光后玻璃表面光潔度好。

４８ 釔鈰稀土拋光粉，其該拋光粉以含釔和鈰的稀土鹽溶液為主要原料，經(jīng)過(guò)合成、洗滌、過(guò)濾、煅燒、破碎分級(jí)等工序獲得，所制備的稀土拋光粉顆粒形貌均勻，松裝比重小，用量小，使用壽命長(zhǎng)的稀土拋光粉。

４９ 玻璃用拋光粉、拋光液及其制備方法、玻璃和電子產(chǎn)品，涉及玻璃拋光技術(shù)領(lǐng)域。通過(guò)控制拋光粉成分含量、粒度分布和硬度，既能保證高切削速率又能減少劃傷。此外，通過(guò)懸浮劑、分散劑、流平劑和助磨劑的添加，增加了拋光粉懸浮性能、分散性能、流平性和均勻性能以及研磨效率，拋光液懸浮、分散性能優(yōu)異，拋光速率高，表面質(zhì)量好。

５０ 具有長(zhǎng)效性的稀土拋光劑，相比現(xiàn)有技術(shù)具有以下優(yōu)點(diǎn)：本發(fā)明中通過(guò)合理配比各原料，得到各原料分布均勻的拋光劑，適合用于樹(shù)脂鏡片拋光，具有極低的粘度和高鋪展性，能夠有效延長(zhǎng)保存周期，降低長(zhǎng)期保存后刮傷比率，切削力強(qiáng)，拋光效率高，拋光后易清洗。

５１ 稀土基晶體拋光粉的制備方法，具有粒徑分布窄、活性高和拋光效果好的特點(diǎn)，在粉末冶金技術(shù)行業(yè)的發(fā)展中具有廣闊的前景。

５２ 用于玻璃拋光的氧化鈰液態(tài)懸浮拋光液，具體為玻璃拋光液技術(shù)領(lǐng)域。產(chǎn)品除了添加觸變劑之外，也添加其它助劑，使氧化鈰為粉顆粒分散，降低玻璃拋光劃傷；玻璃接口產(chǎn)生鈍化，容易研磨拋光，并且不產(chǎn)生團(tuán)聚現(xiàn)象。有效延長(zhǎng)氧化鈰磨料壽命，提高研磨和拋光質(zhì)量，并且提升研磨拋光液的使用壽命，并且降低研磨拋光液的物料成本，研磨過(guò)程，降低研磨玻璃工件劃傷的問(wèn)題。

５３ 稀土氧化物拋光粉原料的生產(chǎn)方法，包括如下步驟：（１）將稀土氯化物的水溶液加熱，然后分批加入碳酸氫銨溶液，得到稀土碳酸物；（２）將稀土碳酸物分階段熱處理，從而得到稀土氧化物拋光粉原料。本發(fā)明的方法可以獲得粒度均勻性良好的拋光粉原料。

５４ 玻璃拋光用納米氧化鈰拋光液及其制備方法，提供的納米氧化鈰拋光液在上述組分的協(xié)同作用下具有較高的拋光效率，且拋光產(chǎn)品表面粗糙度較低。納米氧化鈰拋光液進(jìn)行玻璃晶片拋光時(shí)，拋光產(chǎn)品的平均表觀良率＞９０％，平均拋光速率為１?２μｍ／ｍｉｎ，產(chǎn)品的表面粗糙度由Ｒａ＞０．９ｎｍ降至Ｒａ＜０．６５ｎｍ。

５５ 拋光液組合物及其制備方法和玻璃拋光方法。所述制備方法包括將稀土氧化物、加速劑和水混合，然后依次加入潤(rùn)滑劑和ｐＨ值調(diào)節(jié)劑。本發(fā)明還涉及拋光液組合物對(duì)玻璃進(jìn)行拋光處理。通過(guò)上述技術(shù)方案，拋光液組合物，在低壓條件下拋光效率高，玻璃拋光后表面粗糙度低、劃傷率低、玻璃表面平整，易清洗。

５６ 光學(xué)玻璃拋光用高濃度氧化鈰拋光液，包含氧化鈰磨料、有機(jī)酸拋光速率促進(jìn)劑及復(fù)配表面活性劑。氧化鈰拋光液濃度高、懸浮穩(wěn)定性好，在保證高拋光效率的同時(shí)，能有效提高拋光后光學(xué)玻璃的表面質(zhì)量。

５７化學(xué)?機(jī)械拋光組合物，其包含：（ａ）濕法氧化鈰研磨劑，（ｂ）包含含胺的錨定基團(tuán)及亞乙基氧?亞丙基氧穩(wěn)定化基團(tuán)的表面活性劑，其中該表面活性劑具有約１０００道爾頓至約５０００道爾頓的分子量，（ｃ）芳族羧酸或雜芳族羧酸，及（ｄ）水，其中該拋光組合物具有約３至約６的ｐＨ。本發(fā)明進(jìn)一步提供利用本發(fā)明化學(xué)機(jī)械拋光組合物來(lái)化學(xué)機(jī)械拋光基板的方法。典型地，所述基板含有硅氧化物。

５８                                                                                                                                        鑭鈰稀土拋光粉的制備方法，工藝操作簡(jiǎn)單，原料價(jià)格低廉，生產(chǎn)成本低，適合大規(guī)模工業(yè)化的高效率地制備粒度均一的高性能鑭鈰稀土拋光粉。

５９ 玻璃拋光用水基氧化鈰拋光液及其制備方法，拋光液懸浮分散性好，拋光后產(chǎn)品良率高。

６０ 稀土拋光粉及其制備方法，稀土拋光粉為鑭鈰稀土拋光粉或鑭鈰鐠稀土拋光粉，拋光速率比正常的鑭鈰拋光粉高１０％以上，拋光的良率與對(duì)比鑭鈰拋光粉相當(dāng)，玻璃的易清洗程度和使用壽命優(yōu)于未取代的稀土拋光粉。

６１ 無(wú)氟稀土拋光粉組合物及其制備方法，將氧化鈰和氧化釤的組合物通過(guò)沉淀劑進(jìn)行共沉淀，并進(jìn)行脫水和水洗后再進(jìn)行后處理，所用的沉淀劑是碳酸鹽、草酸鹽或者氫氧化物中的一種或多種。制備的無(wú)氟稀土拋光粉在ＲＬ?１３Ｂ拋光機(jī)上進(jìn)行手機(jī)玻璃拋光實(shí)驗(yàn)，拋光速率比市場(chǎng)上其它的稀土拋光粉高１５％左右，優(yōu)于無(wú)氟鈰基拋光粉，改善了無(wú)氟鈰基稀土拋光粉的性能，提升了稀土拋光粉的品質(zhì)，降低了稀土價(jià)格波動(dòng)造成的稀土拋光粉價(jià)格的波動(dòng)。

６２ 釤鈰稀土拋光粉及其制備方法，制備的釤鈰稀土拋光粉在ＲＬ?１３Ｂ拋光機(jī)上進(jìn)行拋光實(shí)驗(yàn)，拋光速率比正常的鑭鈰拋光粉高３０％左右，拋光的良率與對(duì)比的鑭鈰拋光粉相當(dāng)，玻璃的易清洗程度優(yōu)于其它稀土拋光粉，使用壽命優(yōu)于其它稀土拋光粉。本方法通過(guò)制備釤鈰稀土拋光粉，達(dá)到了開(kāi)拓氧化釤應(yīng)用的目的，同時(shí)利用了氧化釤在稀土拋光粉中相比于氧化鑭的優(yōu)勢(shì)，大大提升了拋光粉的性能。

６３ 氧化鈰拋光粉的制備方法，包括以下步驟，高溫保溫灼燒階段，在５００～１１００℃的溫度條件下，先采用氧化性氣氛灼燒，后采用還原性氣氛灼燒，采用還原性氣氛灼燒時(shí)，控制煙氣中ＣＯ占煙氣的體積比０．００５?５％；降溫階段，采用還原性氣氛灼燒氧化鈰拋光粉，直到溫度低于５００度。該稀土拋光粉的制備方法，在還原性氣氛灼燒時(shí)，控制ＣＯ占煙氣的體積比０．５?２％，此時(shí)三價(jià)鈰的含量較高，且燃料可以充分燃燒，因此稀土拋光粉的拋光速率較高，從而提高稀土拋光粉拋光的精度。

６４ 氧化鈰拋光粉的制備方法，該氧化鈰拋光粉的制備方法，在還原性氣氛灼燒時(shí)，控制ＣＯ占煙氣的體積比０．５?２％，此時(shí)三價(jià)鈰的含量較高，且燃料可以充分燃燒，因此稀土拋光粉的拋光速率較高，從而提高稀土拋光粉拋光的良品率。

６５ 含釤稀土拋光粉，該稀土拋光粉以含釤的稀土鹽溶液為主要原料，向原料中加入含氟的沉淀劑溶液，通過(guò)調(diào)整沉淀劑中的氟離子濃度控制產(chǎn)品中的氟含量，再經(jīng)洗滌、烘干、煅燒、破碎分級(jí)等工序獲得。該工藝區(qū)別于其他生產(chǎn)工藝的主要表現(xiàn)為在稀土原料中引入了釤元素，在沉淀劑中引入了氟元素，具有制備工藝簡(jiǎn)單，原材料來(lái)源廣泛等優(yōu)點(diǎn)。所制備的稀土拋光粉晶粒均勻、棱角明顯，切削速度快。

６６ 含釤鈰基拋光粉，該鈰基拋光粉以含釤的稀土鹽溶液為主要原料，采用共沉淀方式，以含氟的混合沉淀劑進(jìn)行合成，再經(jīng)洗滌、過(guò)濾、煅燒、破碎分級(jí)等工序獲得。本發(fā)明在稀土原料中引入了釤元素，使所得的鈰基稀土拋光粉棱角更加鋒利，晶粒均勻緊密，在保證表面精度的同時(shí)，具有較好的研磨效率及循環(huán)使用性能。同時(shí)具有制備工藝簡(jiǎn)單，原材料來(lái)源廣泛等優(yōu)點(diǎn)。

６７ 化學(xué)機(jī)械拋光液，包括溶膠型氧化鈰、含羥基的非離子型表面活性劑以及ｐＨ調(diào)節(jié)劑。采用溶膠型氧化鈰研磨顆粒與含有羥基的非離子型表面活性劑配合使用的技術(shù)方案，在一定ｐＨ條件下，實(shí)現(xiàn)在幾乎不降低氧化硅的拋光速率的條件下，提高氧化硅對(duì)多晶硅的選擇比。

６８ 用于ＴＦＴ?ＬＣＤ玻璃基板的高效拋光液，拋光液利用率高，降低了生產(chǎn)成本，同時(shí)減小了拋光液廢液對(duì)環(huán)境的污染；本發(fā)明拋光液拋光玻璃基板的材料去除率高，拋光后玻璃表面無(wú)明顯劃痕，表面粗糙度比拋光前有所降低，同時(shí)反應(yīng)器使用透明的非金屬材料，能夠避免有機(jī)物、金屬離子、大顆粒等有害物質(zhì)進(jìn)入到拋光液中，從而降低金屬離子的濃度，避免硅溶膠凝聚現(xiàn)象的出現(xiàn)。

６９ 新型稀土拋光粉及其制備方法。制備方法將烘干后的產(chǎn)品進(jìn)行濕法研磨成球狀，然后在包覆到傳統(tǒng)工藝流程的產(chǎn)品上，再進(jìn)行煅燒，這樣燒后的產(chǎn)品基本上都是亞球形的，經(jīng)過(guò)氣流磨粉碎后，所生產(chǎn)的拋光粉沒(méi)有銳角，形狀都是亞球形的，不會(huì)對(duì)玻璃產(chǎn)生劃傷，質(zhì)量的到了極大的提升。

７０ 微酸性條件下的堿性玻璃拋光液，其特征在于：拋光液的有效成份為稀土氧化物，以及一種有機(jī)和／或無(wú)機(jī)緩沖液，使拋光液保持ｐＨ在５?８之間。該拋光液用于含硅化合物以及其它各種氧化物或半導(dǎo)體或?qū)w、玻璃制品、單晶硅表面、芯片生產(chǎn)的絕緣氧化層的拋光。

７１ 高濃度氧化鈰拋光液及其制備方法，采用有黃原膠與ＣＭＣ復(fù)配作為增稠劑，可以使得氧化鈰顆粒長(zhǎng)時(shí)間懸浮于拋光液中，并使用硅溶膠做為穩(wěn)定劑，通過(guò)其與氧化鈰之間相互作用，可以減少氧化鈰顆粒團(tuán)聚，使其不板結(jié)于拋光液底部，增強(qiáng)其再分散性。本發(fā)明的拋光組合物，適用于液晶玻璃基板、手機(jī)蓋板玻璃、光學(xué)玻璃元件等的拋光，其優(yōu)勢(shì)在于切削力大、表面質(zhì)量好，拋光后易清洗。

７２ 二氧化鈰拋光液的制備方法，將二氧化鈰粉體加入硅烷基偶聯(lián)劑化合物與有機(jī)溶液的混合溶液中，所述硅烷基偶聯(lián)劑化合物為一端含有烷氧基，一端含極性官能團(tuán)；所述有機(jī)溶液中有機(jī)溶劑為醇類；混合溶液脫水干燥后即可得到拋光粉，然后將拋光粉溶于水溶液中，即得到拋光液。根據(jù)本發(fā)明的方法所得到的二氧化鈰粉末，能夠在水溶液中穩(wěn)定而均勻地分散，并且具有較長(zhǎng)懸浮時(shí)間，不易產(chǎn)生沉淀，可應(yīng)用于制作各種二氧化鈰相關(guān)的拋光粉漿、液漿，具有一定的產(chǎn)業(yè)應(yīng)用價(jià)值。

７３  從稀土拋光粉廢渣中回收拋光粉的方法：以玻璃拋光行業(yè)所產(chǎn)生的稀土拋光粉廢渣為原料，首先采用酸性溶液對(duì)其進(jìn)行活化，然后通過(guò)特殊藥劑浮選以及堿液中和和旋流分級(jí)等技術(shù)手段，實(shí)現(xiàn)稀土拋光粉廢渣中含有的無(wú)效組分及顆粒較細(xì)的過(guò)磨稀土組分與保持原有拋光特性的稀土組分之間的高效分離，由此獲得高含量稀土拋光粉，并且采用堿液中和的方式實(shí)現(xiàn)特殊浮選藥劑的高效再生與循環(huán)利用。有效保持了稀土拋光粉原有的拋光特性，并且無(wú)需高溫焙燒過(guò)程，有效降低了能耗。