化學鍍鎳是一種新興的表面處理技術,它是利用氧化一還原反應在金屬材料表面沉積一層均勻、致密、光潔平整的合金鍍層,且鍍層具有優(yōu)良的耐腐蝕性和抗磨損性能,因而在工業(yè)上得到廣泛的用途,如電子元器件、汽車部件等領域。例如,在半導體晶片上的電極上形成凸塊等,從而與其它半導體芯片等相接合時,在形成凸塊之前,會使用化學鍍工藝在半導體晶片上形成由煤等形成的底部阻擋金屬層。在形成底部阻擋金屬層的工藝中,化學鍍鎳膜需要具備良好均勻性和外觀?;瘜W鍍鎳工藝中,為確保鍍鎳液的穩(wěn)定性和提高鍍層的光亮性,通常會在鍍媒液中添加穩(wěn)定劑和光亮劑?;瘜W鍍鎳液中光亮劑的加入不僅能獲得美觀的鍍層,還能改善鍍層的物理性能(硬度,應力,磁性等)和化學性能(耐蝕性,孔隙率,結合力等)。此外,加入光亮劑還能提高鍍層沉積速度。
當鍍鎳液中光亮劑加入量太少時,將會直接影響鍍層的質量:而加入量過多則有可能無法形成鍍層。傳統(tǒng)的光亮劑通常為鋪的硫類化合物,由于此類物質對環(huán)境和人身健康都有很大的危害,含有這些有害物質的化學鍍鎳液的應用也日益受到嚴格的限制。
目前,環(huán)保型化學鍍鎳液得到越來越廣泛的研究,并且開始在生產(chǎn)中應用。但是,當前的環(huán)保型化學鍍鎳液中對光亮劑的研究較少,而且現(xiàn)有的環(huán)保型光亮劑還無法達到理想的光亮水平、抗腐蝕性、硬度、和耐磨性,嚴重影響了鍍層的質量與外觀效果。
最新研制成功的光亮劑的鍍鎳液組合物具有優(yōu)異的穩(wěn)定性,均在873s后才出現(xiàn)分解現(xiàn)象。采用本發(fā)明的鍍鎳液組合物進行化學鍍鎳,得到的鍍鎳層的形貌均勻光亮:鍍鎳層的光澤度GU值均在231 以上:鍍鎳層的耐腐蝕性均在906 小時以上:鍍鎳層的表面顯微硬度值均在775 以上。
新配方如下:
詳細配方請參見
:《化學鍍鎳液、化學鍍鎳制造工藝配方精選匯編》